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트레이닝

등록안내

Registration

사전등록 마감일: 2026년 6월 12일(금) 오후 5시   

[사전등록]  

  • SEMI회원사: 165,000  
  • 비회원사: 198,000   

[현장등록]  

  • SEMI 회원사/비회원사: 220,000   

 ※ 부가세 포함

Registration
대한민국 PKG Tutorial 2026 기술 트레이닝

OVERVIEW 

  • 교육명: SEMI 반도체패키징기술교육 2026
  • 대상: 패키징 관련 경력 5년 이상 엔지니어
  • 일정: 2026년 6월 17일(수) 오전 9시 - 오후 5시
  • 장소: 수원컨벤션센터 305호
  • 주최: SEMI Korea  

 

NOTICE 

  • 참석확인증은 SEMI Korea 통합등록사이트(www.semikrprogram.com)에서 사후설문조사를 완료하시면 발급됩니다.
  • 등록비에는 교재비가 포함되어 있으며 당일 현장에서 수령하실 수 있습니다.
  • 점심식사 및 주차비는 제공되지 않습니다.
  • 교육내용 및 순서는 강사 사정에 의하여 임의로 변경될 수 있습니다.
  • 본 교육은 고용노동부 환급과정이 아닙니다.

 

CONTACT

 

TESTIMONIALS

  • HBM 및 WLP 공정별 상세 소개에서 전문성이 돋보였습니다.
  • HBM과 SiP에 대한 이해도 향상에 도움이 되었습니다.
  • 반도체 패키징에 대한 최신 트렌드와 기술 동향에 대한 정보 습득에 도움이 되었습니다. 

 

2025 Participating Companies—

  • 3M
  • Apple
  • ASM
  • ASML
  • ATI
  • Auros Technology
  • Bosch Rexroth
  • Corning
  • DuPont
  • Evatec
  • EVO
  • GigaVis
  • Hitachi High-Tech
  • Hysolem
  • INFICON
  • INNOX Advanced Materials
  • ITM Semiconductor
  • Justek
  • KCC Silicone
  • KLA
  • Koh Young Technology
  • Lam Research
  • LG Innotek
  • MEERE Company
  • Nextin
  • Park Systems
  • Pilz
  • Point Engineering
  • Samsung Electronics
  • Samsung SDI
  • SFA Semicon
  • TeraView
  • VERMES Microdispensing
  • WONIK IPS
  • Yamaha Robotics
  • Yield Engineering Systems

 

 

대한민국
수원컨벤션센터

9:00 am - 10:00 am
서민석.png
서민석
연구소장
Camtek

SiP with HBM | Process of WLP(HBM) ①

5G, 자율주행, 클라우드 컴퓨팅 등 때문에 반도체에 대해 고속, 고용량, 저전력 특성의 요구가 더욱 더 커지고 있다. 지금까지는 이러한 요구를 반도체 공정의 스케일 다운을 통해서 만족시킬 수 있었지만, 최근 Chat GPT 등 인공 지능의 활용이 늘어나면서 데이터의 사용량은 급증하게 됨에 따라 반도체의 스케일 다운만으로는 이러한 요구 사항을 만족시키기 어렵고, 적층, 이종 접합 등의 첨단 반도체 패키지 기술이 필요하게 되었다. 본 과정에서는 웨이퍼 레벨 패키지(WLP, wafer level package), 적층(stack) 패키지, 시스템 인 패키지(SiP, System in Package) 등의 첨단 패키지 기술 트렌드에 대해서 심도 있게 고찰하려 한다. 특히 TSV 적층 기술과 웨이퍼 레벨 패키지 기술을 이용한 HBM(High Bandwidth Memory)의 의미와 공정을 이야기하고, HBM을 이용한 시스템 인 패키지기술을 설명하려 한다. 그리고, 칩릿(Chiplet)을 이용한 시스템 인 패키지 기술의 필요성과 이를 위한 핵심 기술에 대해서도 정리하려 한다.

※ 연사정보

10:00 am - 10:10 am

Break

10:10 am - 11:10 am
서민석.png
서민석
연구소장
Camtek

SiP with HBM | Process of WLP(HBM) ②

11:10 am - 11:20 am

Break

11:20 am - 12:20 pm
서민석.png
서민석
연구소장
Camtek

SiP with HBM | Process of WLP(HBM) ③

12:20 pm - 1:40 pm

Lunch

1:40 pm - 2:40 pm
김종훈 TL
김종훈
TL
SK hynix

Advanced Packaging for High Performance Computing System ①

AI 시대의 도래와 함께 LLM과 같은 초거대 AI 모델의 학습 및 추론을 위한 High Performance Computing(HPC)의 중요성이 빠르게 증가하고 있다. 그러나 기존의 미세공정 scaling만으로는 연산 성능 향상에 한계가 발생하고 있으며, 메모리 대역폭, 전력 효율, 칩 간 데이터 전송과 같은 문제가 핵심 과제로 부상하고 있다. 이러한 한계를 극복하기 위한 핵심 기술 중 하나가 바로 Advanced Packaging 기술이다. 본 강의에서는 AI 시대 HPC 시스템이 요구하는 성능 특성과 시스템 구조를 먼저 이해하고, 이를 가능하게 하는 다양한 Advanced Packaging 기술들을 체계적으로 설명하고자 한다. 먼저 2.5D/3D 패키징 기술과 TSV, silicon interposer, hybrid bonding과 같은 핵심 요소 기술을 살펴보고, GPU와 HBM을 초고속으로 연결하기 위한 최신 패키지 구조를 분석한다. 이어서 Chiplet architecture, CoWoS, Foveros, SoIC, Fan-Out Packaging(FOPLP/FOWLP)과 같은 산업 적용 사례를 소개하며, 고대역폭·저전력 구현을 위한 패키지 기술 방향을 설명하고자 한다.

※ 연사정보

2:40 pm - 2:50 pm

Break

2:50 pm - 3:50 pm
김종훈 TL
김종훈
TL
SK hynix

Advanced Packaging for High Performance Computing System ②

3:50 pm - 4:00 pm

Break

4:00 pm - 5:00 pm
김종훈 TL
김종훈
TL
SK hynix

Advanced Packaging for High Performance Computing System ③

SEMI 반도체 패키징 기술 교육은 패키징 분야 경력 엔지니어를 위한 심화 교육 프로그램입니다. 본 교육은 패키징 기술에 대한 기본 이해를 갖춘 장비사, 소재사 및 연구기관의 경력 엔지니어를 대상으로, HBM을 포함한 첨단 패키징 기술과 주요 응용 사례를 폭넓게 소개함으로써 산업 종사자들의 실질적인 실무 역량 강화를 목표로 기획되었습니다.

9:00 am - 5:00 pm Off Add to Calendar 2026-06-17 09:00:00 2026-06-17 17:00:00 SEMI 반도체패키징기술교육 2026 SEMI 반도체 패키징 기술 교육은 패키징 분야 경력 엔지니어를 위한 심화 교육 프로그램입니다. 본 교육은 패키징 기술에 대한 기본 이해를 갖춘 장비사, 소재사 및 연구기관의 경력 엔지니어를 대상으로, HBM을 포함한 첨단 패키징 기술과 주요 응용 사례를 폭넓게 소개함으로써 산업 종사자들의 실질적인 실무 역량 강화를 목표로 기획되었습니다. 대한민국 수원컨벤션센터 SEMI.org [email protected] Asia/Seoul public Asia/Seoul 등록 바로가기
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Registration

Registration
과정일정교육비
회원사비회원사현장등록
기초과정6/10 (수)165,000원198,000원220,000원
심화과정  6/11(목) – 6/12(금)286,000원345,000원385,000원

※  부가세 포함 가격입니다.

  • 등록 및 결제 마감일: 2026년 5월 29일(금) 오후 5시
  • 등록 절차: 통합등록사이트(www.semikrprogram.com)) 접속 > 로그인 후 해당 프로그램 등록 신청 > 결제 > 등록완료
  • SEMI 회원사 확인 (바로가기)  
Registration
대한민국 SGT 2026 비즈니스 트레이닝

[OVERVIEW]

  • 교육명: SEMI 안전표준교육 2026 (상반기)
  • 일정: 2026년 6월 10일(수) – 12일(금)
  • 장소: 수원 컨벤션센터 202호
  • 주최: SEMI Korea
  • 문의: SEMI Korea 표준팀 (02-531-7899 / [email protected])  

 

[COURSE DETAILS]

  • 기초과정: SEMI S2 표준 내용 소개
    • 일정: 2026년 6월 10일(수)
    • 대상: 반도체 장비 개발/설계 엔지니어, 품질/규제 관련 실무자, 안전/환경(EHS) 관련 실무자
  • 심화과정: 비상정지 장치/안전 장치 설치 가이드라인, 화학물질/기계/방사/전기 설계 안전 가이드라인, 인체공학 설계 가이드라인, 위험성 평가 기법, 안전 인터록 회로 구성 등 안전표준 심화해설 (SEMI S2, S6, S8, S10, S14, S17, S22, S28)
    • 일정: 2026년 6월 11일(목) – 12일(금)
    • 대상: 경력 5년 내외 장비 개발/설계 엔지니어, 품질/규제 관련 실무자, 안전/환경(EHS) 관련 실무자

 

[NOTICE]

  • 교육내용 및 순서는 강사 사정에 의해 임의로 변경될 수 있습니다.
  • 본 교육은 반도체 제조사 및 장비사를 대상으로 운영되며, 3자 인증기관의 수강신청은 제한됩니다.
  • 본 교육은 2가지 과정(기초, 심화) 중 희망하시는 과정을 신청하여 수강하시는 과정입니다.
  • 본 교육은 고용노동부 환급과정이 아닙니다.
  • 등록비에는 중식과 교재비가 포함되어 있으며, 교재는 교육 당일 현장에서 수령하실 수 있습니다.
  • 주차비는 지원하지 않습니다.
  • 참석확인증은 교육 종료 후, 통합등록사이트(www.semikrprogram.com)에서 사후 설문조사를 완료하시면 발급됩니다.

대한민국
수원컨벤션센터

9:00 am - 9:40 am
전대영
전대영
부장
SGS Korea

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (개요)

9:40 am - 9:50 am

휴식

9:50 am - 10:40 am

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (Safety interlock, Emergency shutdown Ⅰ)

10:40 am - 10:50 am

휴식

10:50 am - 11:30 am

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (Safety interlock, Emergency shutdown Ⅱ)

11:30 am - 11:40 am

휴식

11:40 am - 12:30 pm

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (Electrical design, Fire protection)

12:30 pm - 1:30 pm

점심식사

1:30 pm - 2:10 pm

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (Ergonomic, Mechanical design, Ventilation Ⅰ)

2:10 pm - 2:20 pm

휴식

2:20 pm - 3:10 pm

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (Ergonomic, Mechanical design, Ventilation Ⅱ)

3:10 pm - 3:20 pm

휴식

3:20 pm - 4:00 pm

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (Environmental, Chemical, Radiation, Sound pressure level Ⅰ)

4:00 pm - 4:10 pm

휴식

4:10 pm - 4:50 pm

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (Environmental, Chemical, Radiation, Sound pressure level Ⅱ)

4:50 pm - 5:00 pm

Q&A

9:00 am - 9:40 am
임근영
임근영
부장
SAFE WORLD Engineering

SEMI S2 비상정지 장치 및 안전 장치 설치 가이드라인 해설 심화 (SEMI S2 Section 11,12)

9:40 am - 9:50 am

휴식

9:50 am - 10:40 am

SEMI S2 비상정지 장치 및 안전 장치 설치 가이드라인 해설 심화 (SEMI S2 Section 11,12)

10:40 am - 10:50 am

휴식

10:50 am - 11:30 am

SEMI S2 화학물질 안전 가이드라인 해설 심화 (SEMI S2 Section 14, 17, 21, 22, 23 and SEMI S6, S14)

11:30 am - 11:40 am

휴식

11:40 am - 12:30 pm

SEMI S2 화학물질 안전 가이드라인 해설 심화 (SEMI S2 Section 14, 17, 21, 22, 23 and SEMI S6, S14)

12:30 pm - 1:30 pm

점심식사

1:30 pm - 2:10 pm

SEMI S2 기계 안전 가이드라인 해설 심화 (SEMI S2 Section 11, 18, 19, 20 and SEMI S17, S28)

2:10 pm - 2:20 pm

휴식

2:20 pm - 3:10 pm

SEMI S2 기계 안전 가이드라인 해설 심화 (SEMI S2 Section 11, 18, 19, 20 and SEMI S17, S28)

3:10 pm - 3:20 pm

휴식

3:20 pm - 4:00 pm

SEMI S2 방사 관련 안전 가이드라인 해설 심화 (SEMI S2 Section 24, 25, 26)

4:00 pm - 4:10 pm

휴식

4:10 pm - 4:50 pm

SEMI S8 SESC 인체공학 설계 가이드라인 해설 및 예제

4:50 pm - 5:00 pm

Q&A

9:00 am - 9:40 am
박현준
박현준
차장
PCA

SEMI S22 반도체 제조장비의 전기 설계 안전 가이드라인 (Section 8 - 11)

9:40 am - 9:50 am

휴식

9:50 am - 10:40 am

SEMI S22 반도체 제조장비의 전기 설계 안전 가이드라인 (Section 12 - 15)

10:40 am - 10:50 am

휴식

10:50 am - 11:30 am

SEMI S22 반도체 제조장비의 전기 설계 안전 가이드라인 (Section 16 - 19)

11:30 am - 11:40 am

휴식

11:40 am - 12:30 pm

SEMI S22 반도체 제조장비의 전기 설계 안전 가이드라인(Section 20 - 22)

12:30 pm - 1:30 pm

점심식사

1:30 pm - 2:30 pm
박근용
박근용
이사
SZU Korea

SEMI S10에 기반한 위험성 평가 기법

2:30 pm - 2:40 pm

휴식

2:40 pm - 3:40 pm

SEMI S2 11장 안전 인터록 회로 구성에 대한 심화 학습

3:40 pm - 3:50 pm

휴식

3:50 pm - 4:40 pm

SEMI S2 RI 16 및 SEMI S2 11장에 의한 안전 인터록 회로 구성에 대한 심화 학습

4:40 pm - 5:00 pm

Q&A

- Standards

2026년 4월 13일(월) 오전 10시 등록 오픈! 

SEMI 안전표준반도체 제조장비의 안전한 설계 및 평가의 지침이 되는 핵심 산업표준으로, 전 세계 주요 반도체 제조사들에게 널리 사용되고 있습니다.  

오는 6월, SEMI 안전표준교육이 기초과정심화과정으로 나누어 개최됩니다. 표준의 기본적인 내용부터 올해 새롭게 마련된 SEMI S2 심화해설, 그리고 실무 지식까지 본 교육과 함께 SEMI 안전표준을 체계적으로 이해해 보세요.  

Off Add to Calendar 2026-06-10 00:00:00 2026-06-12 00:00:00 SEMI 안전표준교육 2026 (상반기) 2026년 4월 13일(월) 오전 10시 등록 오픈! SEMI 안전표준은 반도체 제조장비의 안전한 설계 및 평가의 지침이 되는 핵심 산업표준으로, 전 세계 주요 반도체 제조사들에게 널리 사용되고 있습니다.  오는 6월, SEMI 안전표준교육이 기초과정과 심화과정으로 나누어 개최됩니다. 표준의 기본적인 내용부터 올해 새롭게 마련된 SEMI S2 심화해설, 그리고 실무 지식까지 본 교육과 함께 SEMI 안전표준을 체계적으로 이해해 보세요.   대한민국 수원컨벤션센터 SEMI.org [email protected] Asia/Seoul public Asia/Seoul
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등록안내

Registration

※ 기초과정 및 중급과정의 등록이 모두 정원 마감되었습니다. (현장등록도 불가합니다.)

  • 사전등록 마감일: 2026년 4월 10일(금) 오후 5시
  • 기초과정
    • SEMI 회원사/학생: 176,000
    • 비회원사: 198,000
    • 현장등록가: 220,000
  • 중급과정
    • SEMI 회원사/학생: 374,000
    • 비회원사: 429,000
    • 현장등록가: 451,000
Registration
대한민국 SPT 2026 1st 기술 트레이닝

OVERVIEW

  • 교육명: SEMI 반도체공정기술교육 2026 (상반기)
  • 일정
    • 기초과정: 2026년 4월 20일(월)
    • 중급과정: 2026년 4월 21일(화) - 23일(목)
  • 장소: 수원컨벤션센터 203호
  • 주최: SEMI Korea

 

COURSE DETAILS

  • 기초과정: 반도체에 관한 기초개념 설명과 반도체 제조공정을 소개하는 1일 이론과정
    • 대상: 반도체 분야 관련 실무자 중 반도체 비전공자, 경영지원팀, 기술영업 등
  • 중급과정: 공정별 특성 및 심화과정을 소개하는 3일 이론과정
    • 대상: 반도체 공정에 참여하고 있는 엔지니어 등

 

NOTICE

  • 참석확인증은 SEMI Korea 통합등록사이트(www.semikrprogram.com)에서 사후설문조사를 완료하시면 발급됩니다.
  • 등록비에는 교재비가 포함되어 있으며 당일 현장에서 수령하실 수 있습니다.
  • 점심식사 및 주차비는 제공되지 않습니다.
  • 교육내용 및 순서는 강사 사정에 의하여 임의로 변경될 수 있습니다.
  • 본 교육은 고용노동부 환급과정이 아닙니다.


CONTACT

 

TESTIMONIALS

 

  • 연사분께서 강연을 지루하지 않고 재미 있게 풀어주셔서 집중하기 좋았습니다.
  • 연사분의 설명이 정말 최고였고, 한가지라도 더 알려주시려는 점이 너무 감명깊었습니다.
  • 모든 강사분께서 강의에 적극적으로 임해주셔서 저 또한 열심히 참여하였습니다.  


 

2025 PARTICIPATING COMPANIES—

3SEV GroupMacquarie Semiconductor and Technology     SGS
Aekyung ChemicalFestoMerckShinsho Corporation
AlsemyFourlopticNICCAShinyoung Securities
Applied MaterialsFUJIFILMNippon Sanso HoldingsSTAr Technologies
ASMLHana MicronNovasenSwagelok
Bühler Leybold OpticsHORIBAPamtekTESCAN
Carl ZEISSINFICONPark SystemsTokyo Electron
Dai Nippon PrintingINNOX Advanced MaterialsRFHICULVAC
DealsiteIntralinkSahmyookUNISEM
Dupont Electronics & Industrial     Kook Je ElectricSamsung SDIUP Chemical
Edwards VacuumKorea Institute of Fusion Energy     Samyang NC ChemWIZIT
ENF TechnologyLOG KoreaSEMESWonik QnC
ESOLLOT VacuumSemicat 
ETRILTCSEONHU 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

FEATURED SPEAKERS FROM—

대한민국
수원컨벤션센터

10:00 am - 4:35 pm
2.SPT2022(2H)_서강대학교 김상완 교수_사진_220915.jpg
김상완
교수
서강대학교

본 강의는 반도체 분야의 기초 이해를 목표로 하며, 크게 세 가지 핵심 주제로 구성되어 있다.

1) 반도체 기술 및 산업의 발전 과정을 살펴보고, 이를 바탕으로 현재 반도체 산업의 동향과 중요성을 이해하는 것을 목표로 한다.
2) 반도체 재료의 특성과 반도체 소자의 기본적인 동작 원리를 정성적인 관점에서 이해하는 것을 목표로 한다.
3) 반도체 소자 및 IC 칩 제작에 필요한 주요 단위공정기술 및 집적공정기술의 기초에 대해 이해하는 것을 목표로 한다.

※ 연사정보

9:00 am - 10:00 am
김장현
김장현
교수
아주대학교

Overview of VLSI Technology

본 강의는 최신 반도체 제조 기술 중 하나인 3나노미터(3nm)급 공정을 기반으로 한 GAA(Gate-All-Around) MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor) 소자에 대한 구조와 동작 이해를 중점으로 다룹니다. 최근 발표된 연구 기술과 논문을 기반으로 반도체 소자의 연구 동향과 기술적인 이슈를 탐구합니다.

※ 연사정보

10:00 am - 10:10 am

Q&A, Break

10:10 am - 11:10 am
김장현
김장현
교수
아주대학교

Overview of VLSI Technology

11:10 am - 11:25 am

Q&A, Break

11:25 am - 1:00 pm

Lunch

1:00 pm - 2:00 pm
이석배
이석배
프로
SK siltron

Semiconductor Silicon Wafer Preparation

본 강의에서는 Silicon ingot을 성장시키는 growing process와 Wafer의 형상 제어를 목적으로 하는 shaping process, Wafer 표면의 경면을 목적으로 평탄도를 제어하는 Polishing proces, 마지막으로 청정도 제어 목적의 Cleaning process를 포함하는 wafering process 설명을 통해 전반적인 wafer 제조 process에 대한 이해를 높일 예정이다.
또한 Silicon wafer의 metrology 를 Crystal, Surface, Electrical, Contamination 관점에서 설명함으로써 분석 방법 및 영역에 대한 포괄적 이해를 돕고자 한다.

※ 연사정보

2:00 pm - 2:10 pm

Q&A, Break

2:10 pm - 3:10 pm
이석배
이석배
프로
SK siltron

Semiconductor Silicon Wafer Preparation

3:10 pm - 3:25 pm

Q&A, Break

3:25 pm - 4:25 pm
김태성-교수님.jpg
김태성
교수
성균관대학교

CMP & Cleaning

반도체 소자의 고속화 및 고집적화에 따라 다층배선구조에 있어서 배선층수의 증가와 패턴의 미세화에 대한 요구가 여전히 높다. CMP (Chemical Mechanical Planarization)는 미세패턴을 형성하기 위한 노광장치의 Depth of focus가 작아지면서 광역평탄화를 실현하기 위해 도입되었는데, 현재는 STI, Cu damascene 등 패턴형성 및 TSV 같은 packaging 쪽에도 사용되고 있어 그 중요성이 나날이 커지고 있다. Cleaning은 Particle, Metal, Polymer, Organic contamination, Native Oxide 및 Damaged Layer 등과 같은 Wafer 상의 원하지 않는 물질들을 제거하여, Device Yield를 감소시키는 노광 불량, Gate Oxide 불량, 전기적 접촉저항 불량 및 배선의 단락 등과 같은 결함을 제어하는 모든 공정을 의미한다. 패턴 미세화에 따라 난이 도가 급격히 증대되어 패턴손상 없는 새로운 세정공정개발의 필요성이 커지고 있다. 본 강 의에서는 CMP 및 cleaning의 기본 개념과 필수 구성요소를 장비와 재료 측면에서 살펴보고, 차세대 CMP 및 cleaning의 방향에 대해서 다루고자 한다.

※ 연사정보

4:25 pm - 4:35 pm

Q&A, Break

4:35 pm - 5:35 pm
김태성-교수님.jpg
김태성
교수
성균관대학교

CMP & Cleaning

5:35 pm - 5:50 pm

Q&A, Adjourn

9:00 am - 10:00 am
김홍익
김홍익
TL
SK hynix

Lithography

리소그래피(Lithography, 노광 공정)는 반도체 공정에서 회로의 ‘밑그림’을 웨이퍼에 정밀하게 그려 넣는 핵심 단계이다. 설계된 회로 패턴은 스캐너 등의 노광 장비를 통해 웨이퍼 표면에 도포된 감광제(포토레지스트) 위에 빛으로 전사되며, 이 과정의 반복을 통해 실제 반도체 회로를 형성한다. 본 강의에서는 리소그래피 공정의 기본 원리와 역사적 발전, 광원 및 렌즈 시스템, 포토레지스트의 종류와 특성, 노광 장비의 구성과 작동 원리, 그리고 해상도 향상을 위한 최신 기술까지 단계별로 설명한다. 이를 통해 리소그래피 공정의 핵심 개념을 이해하고, 미래 반도체 기술 발전에 필요한 기초 역량을 갖추는 데 기여할 수 있다.

※ 연사정보

10:00 am - 10:10 am

Q&A, Break

10:10 am - 11:10 am
김홍익
김홍익
TL
SK hynix

Lithography

11:10 am - 11:25 am

Q&A, Break

11:25 am - 1:00 pm

Lunch

1:00 pm - 2:00 pm
임한진
임한진
교수
삼성전자 SSIT

Implantation & Diffusion

Doping 및 Diffusion 공정 (Implantation, Annealing, Oxidation, Nitridation, Deposition)은 지난 50 년간 핵심 반도체 제조 기술로서 고성능 소자 제작을 위해 사용되어 왔으며, 현재도 새로운 기술로서 진화하고 있다. 본 중급 과정에서는 각 공정에 대한 기초, 심화, 응용에서부터 차세대 공정까지 폭넓게 다룰 예정이다. Ion implantation 에서는 목적, 장단점, Hardware 구성, Process 응용, Doping profile, Channeling, Defect, TED, 신기술에 대해 소개한다. Annealing 에서는 목적, 종류 (sRTA, fRTP, LSA), Activation, Junction 조절, 장비 종류 및 Hardware 구성에 대해 소개한다. Oxidation 에서는 산화 Kinetics, 산화막 물성, Defect/Charge, 다양한 산화 방식(Dry, Wet, Plasma, Radical)과 장비에 대한 소개가 이루어진다. Nitridation 에서는 방식(Thermal, Plasma)에 따른 N profile, 소자 특성, 장비에 대해 다룬다. Deposition (LPCVD, ALD) 에서는 증착 Kinetics, 분류 방식, 다양한 박막 종류 (Poly Si, SiO2, Si3N4, SiON, Metal) 및 공정 응용에 대해 소개할 예정이다.

※ 연사정보

2:00 pm - 2:10 pm

Q&A, Break

2:10 pm - 3:10 pm
임한진
임한진
교수
삼성전자 SSIT

Implantation & Diffusion

3:10 pm - 3:25 pm

Q&A, Break

3:25 pm - 4:25 pm
박용신 수석.png
박용신
수석
삼성전자

Etch

최근 반도체 집적도가 증가하면서 Patterning 공정에 대한 난이도 역시 급격히 증가하고 있다. 특히 2D 및 3D Patterning을 모두 담당하는 Etching 공정의 중요성은 그 어느 때 보다도 높아진 상황이다. 본 강의에서는 Etching process를 구현하는데 필수적인 Plasma physics 및 engineering을 소개하고, 기본적인 Etching mechanism 및 주요 물질 별 Etching chemistry, 차세대 Etching 기술 트렌드 등을 조망하고자 한다.

※ 연사정보

4:25 pm - 4:35 pm

Q&A, Break

4:35 pm - 5:35 pm
박용신 수석.png
박용신
수석
삼성전자

Etch

5:35 pm - 5:50 pm

Q&A, Adjourn

9:00 am - 10:00 am
강동균
강동균
TL
SK hynix

Thin Film

최근 반도체 산업은 초고속, 저전력, 고집적 등 메모리 소자의 성능을 향상시키기 위한 방향으로 연구 개발을 활발하게 추진하고 있습니다. 반도체 소자를 실제로 구현하고 제품으로 만들어내는 반도체 제조 공정은 이를 위해 새로운 기술 및 소재의 개발과 함께 기존 소자의 구조를 개선하는 등의 다양한 연구를 병행하고 있습니다.
본 강의는 Thin Film 공정의 기본 개념 및 용어와 함께 해당 공정의 증착 방법, 각 증착 물질의 특징과 장단점에 대해 이해하고 이를 바탕으로 특히, Dielectric, Metal 물질 별 응용 사례를 파악하여 Thin Film 공정에 대한 이해도를 높이는 과정입니다.

※ 연사정보

10:00 am - 10:10 am

Q&A, Break

10:10 am - 11:10 am
강동균
강동균
TL
SK hynix

Thin Film

11:10 am - 11:25 am

Q&A, Break

11:25 am - 1:00 pm

Lunch

1:00 pm - 2:00 pm
7.SPT2022(2H)_SK하이닉스 오재형 TL_사진.jpg
오재형
TL
SK hynix

Metrology & Inspection

반도체 회로 패턴이 점점 미세화 되면서 반도체 소자를 형성하기 위한 공정 진행 방법 또한 점점 어려워지고 복잡해지고 있다. 특히 반도체 제품의 Pattern Shrinkage, SPT/DPT 공정의 확대, 구조변화 등에 따라 다양한 형태의 불량들이 발생할 뿐만 아니라 불량 Size 또한 더욱더 작아지고 있어 제조 공정 과정에서 발생되는 문제점을 빠르고 정확하게 확인할 수 있는 In-line 계측 기술에 대한 요구가 높아지고 있다. 본 강의에서는 반도체 제조 공정 과정에서 사용되는 Metrology & Inspection 분야의 중요 장치들의 기본적인 작동 원리와 종류를 알아보고, 각 장비들의 활용 사례를 통하여 공정상의 문제점 파악과 해결 방법들을 살펴보고, 향후 신제품 대응에 필요한 차세대 Metrology & Inspection Tools의 개발 Trend에 대해서 다루고자 한다.

※ 연사정보

2:00 pm - 2:10 pm

Q&A, Break

2:10 pm - 3:10 pm
7.SPT2022(2H)_SK하이닉스 오재형 TL_사진.jpg
오재형
TL
SK hynix

Metrology & Inspection

3:10 pm - 3:25 pm

Q&A, Break

3:25 pm - 4:25 pm
김종훈
김종훈
TL
SK hynix

Packaging

반도체 패키지란 일반적으로 전공정에서 실리콘에 형성된 회로를 외부로 연결해주고 보호해줄 수 있도록 하는 후공정 단계이다. 반도체가 발전 할수록 더욱 빠르게 동작하고, 다양한 분야에 활용함으로 인해 열방출에 대한 성능과 고 신뢰성을 요구하게 되었다. 최근 AI의 성장을 위해서는 패키지의 발전도 같이 이루어져야 한다는 목소리가 커지고 있다. 이제는 패키지가 외부로 전기적, 기계적 연결하고 열방출, 반도체의 보호에 대한 역할 뿐만 아니라 반도체 회로 소형화의 한계로 패키지에 고속화, 다기능화, 저전력 등의 기능을 요구 하고 있다. 이에 발맞추어 실리콘 관통 적극을 이용하여 HBM(High Band width) 메모리가 등장하고 있으며 이종 칩을 연결하여 새로운 시스템 인 패키지가 만들어지고 있기도 하다. 점점 패키지의 역할이 중요해지고 있는 시점에 맞추어 본 강의에서는 반도체 패키지가 어떤 역할을 하는지 앞으로의 Trend를 소개하고, Substrate를 이용한 일반적인 반도체 패키지 공정과 새로운 시장을 위해 적용되고 있는 flip chip 및 웨이퍼 레벨 패키지 기술 실리콘 관통 전극(TSV)를 이용한 3D 적층 패키지 기술과 이종 칩 연결 기술에 대해 소개하고자 한다.

※ 연사정보

4:25 pm - 4:35 pm

Q&A, Break

4:35 pm - 5:35 pm
김종훈
김종훈
TL
SK hynix

Packaging

5:35 pm - 5:50 pm

Q&A, Adjourn

- Workforce Development

SEMI 반도체공정기술교육은 반도체 장비 및 재료 분야 종사자들이 반도체 제조공정을 깊이 이해하고, 업무를 원활히 수행할 수 있도록 지원합니다. 이 교육은 반도체 장비 및 재료 제조에 종사하는 엔지니어, 기획 및 마케팅 실무자, 제조업체 기술영업사원, 이공계 학생을 대상으로 합니다. 웨이퍼 제조부터 공정 결함을 측정/계측하는 MI기술까지, 반도체 칩 제조공정을 한눈에 볼 수 있는 기회를 제공하오니 많은 관심과 참여를 부탁드립니다.

Off Add to Calendar 2026-04-20 00:00:00 2026-04-23 00:00:00 SEMI 반도체공정기술교육 2026 (상반기) SEMI 반도체공정기술교육은 반도체 장비 및 재료 분야 종사자들이 반도체 제조공정을 깊이 이해하고, 업무를 원활히 수행할 수 있도록 지원합니다. 이 교육은 반도체 장비 및 재료 제조에 종사하는 엔지니어, 기획 및 마케팅 실무자, 제조업체 기술영업사원, 이공계 학생을 대상으로 합니다. 웨이퍼 제조부터 공정 결함을 측정/계측하는 MI기술까지, 반도체 칩 제조공정을 한눈에 볼 수 있는 기회를 제공하오니 많은 관심과 참여를 부탁드립니다. 대한민국 수원컨벤션센터 SEMI.org [email protected] Asia/Seoul public Asia/Seoul 등록 바로가기
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등록 안내

Registration
Registration
대한민국 SPT Hands On 2026 기술 트레이닝

교육개요

  • 교육명: 대학생을 위한 반도체공정실습교육 2026
  • 대상: 이공계 학부생 4학년(6학기 이상 이수한 휴학생 포함), 교육 직전 연도 졸업생(2025~2026년 졸업생). 
    ※ 6학기 미만 이수자, 석사/박사/동시 재직자 제외
  • 집합장소: 명지대학교 자연캠퍼스 산학협력관 7층 3호 (Y17703호) [교통안내 바로가기]
  • 정원: 회당 20명
  • 주최: SEMI, 명지대학교 반도체공정진단연구소

 

교육비

  • 학생부담금: 33만원 (중식 미포함)
  • 총 60만원 상당의 교육 프로그램으로, 1인당 약 30만원의 후원사 지원 혜택을 제공합니다. 


 

과정 및 내용

  • 이론 및 실습 병행 4일 과정
    반도체 제조 공정을 이론과 실습을 통해 종합적으로 이해하고, 공정 및 장비에 대한 실무적 이해도를 높일 수 있는 교육 프로그램
    • 1) 이론:
      반도체 산업 및 기술 트렌드 소개, FEOL/BEOL 공정(Unit Process, Plasma Process) 이론 교육, 반도체 장비 및 주요 구성요소(Components & Equipment) 이해
    • 2) 실습:
      300mm 양산 장비를 활용한 PECVD, Dry Clean, Etch/Strip 공정 실습 및 장비 구성요소 실습

 


교육 일정

 

 

등록절차

  • 통합등록사이트 로그인 후 등록 신청
    • 각 차수별 20명 선착순 모집
    • 카카오 알림톡으로 신청적격심사 승인결과 공지
    • 승인 후 기한 내 미결제 시 등록 취소 및 대기자에게 차례 전환
  • 신청 시 제출서류: 재학증명서(26년 발급) 및 졸업증명서(25-26년 발급)만 인정
    * 3학년의 경우에만 6학기 이상 수료했음을 증빙할 수 있는 휴학증명서 혹은 성적증명서도 가능
  • 온라인 카드결제만 가능 


 

대기 및 추가모집 절차

  • 사전등록 기간동안 여석 발생시, 대기 순번에 따라 순차적으로 결제 안내 ▷ 승인 후 기한 내 등록비 결제 ▷ 등록 완료

 

 

기타

  • 복장: 팹 출입이 편안한 바지 복장
  • 준비사항: 실습시 원활한 진행을 위해 노트북 지참을 권장드립니다.
  • 자주하는 문의: [바로가기]

 

 

교육문의

 

 

후원사

03.-PSK.jpg 08.-AMAT.jpg 06.-ASM_2.jpg
KLA
11.-Entegris.jpg
   

대한민국
명지대학교 자연캠퍼스

- Workforce Development

반도체 소부장 엔지니어를 꿈꾸는 이공계 대학생을 위한 실습 교육

칩 제조에 필요한 공정 장비와 주요 장비 요소 기술에 대해 종합적으로 이해할 수 있는 교육

Off Add to Calendar 2026-03-23 00:00:00 2026-11-19 00:00:00 대학생을 위한 반도체공정실습교육 2026 반도체 소부장 엔지니어를 꿈꾸는 이공계 대학생을 위한 실습 교육칩 제조에 필요한 공정 장비와 주요 장비 요소 기술에 대해 종합적으로 이해할 수 있는 교육 대한민국 명지대학교 자연캠퍼스 SEMI.org [email protected] America/Los_Angeles public 등록 바로가기
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REGISTRATION

Registration
일정교육비
회원사비회원사현장등록
11/12 (수)165,000원198,000원220,000원

※  부가세 포함

  • 등록 및 결제 마감일: 2025년 11월 4일(수) 17시
  • 등록 절차: 통합등록사이트(semi_prog.sjinfotec.com) 접속 > 로그인 후 해당 프로그램 등록 신청 > 결제 > 등록완료
  • SEMI 회원사 확인 (바로가기)  
Registration
대한민국 소프트웨어표준교육 기술 트레이닝

[OVERVIEW]

  • 교육명: SEMI 소프트웨어표준교육 2025
  • 일정: 2025년 11월 12일(수)
  • 장소: 수원 컨벤션센터 205호
  • 주최: SEMI Korea
  • 문의: SEMI Korea표준팀 (02-531-7899 / [email protected]

 

[COURSE DETAIL]

  • 대상: 장비/IT 소프트웨어 엔지니어, 스마트 제조/공정 자동화 엔지니어, 데이터 처리/통합 관련 부서 실무자
  • Part 1. SECS/GEM
    • SECS(SEMI Equipment Communications Standard)와 GEM(The Generic Model for Communications and Control of Manufacturing Equipment)은 장비와 호스트 간 통신을 위한 규약으로, 반도체 공정 자동화 구현에 필수적인 표준입니다. 본 교육에서는 해당 표준의 내용 및 활용에 대해 다루고자 합니다.
  • Part 2. EDA
    • EDA(Equipment Data Acquisition)는 반도체 제조공정의 자동화를 위해 사용되는 통신표준입니다. 해당 표준은 자동화된 공장설비에서 대량의 데이터를 빠르게 수집·분석·처리하여 생산성 및 품질 향상, 비용 절감에 필수적으로 사용되고 있습니다. 본 교육에서는 현장경험이 풍부한 강사의 강의를 토대로EDA에 대해 개괄적으로 소개합니다.


[NOTICE]

  • 교육내용 및 순서는 강사 사정에 의해 임의로 변경될 수 있습니다.
  • 본 교육은 반도체 제조사 및 장비사를 대상으로 운영되며, 소프트웨어 솔루션 기업의 수강신청은 제한됩니다.
  • 본 교육은 Part 1(SCES/GEM)과 Part 2(EDA)를 모두 수강하시는 과정입니다.
  • 본 교육은 고용노동부 환급과정이 아닙니다.
  • 등록비에는 중식과 교재비가 포함되어 있으며, 교재는 교육 당일 현장에서 수령하실 수 있습니다.
  • 주차비는 지원하지 않습니다.
  • 참석확인증은 교육 종료 후, 통합등록사이트(semi_prog.sjinfotec.com)에서 사후 설문조사를 완료하시면 발급됩니다.  

대한민국
수원컨벤션센터 205호

9:00 am - 9:10 am
김형수
김형수
대표
Doople

SEMI Standard와 생산 Application과의 관계

9:10 am - 9:40 am

SECS Protocol: Part 1 (SECS-Ⅰ/SECS-Ⅱ/HSMS)

9:40 am - 9:50 am

Break

9:50 am - 10:20 am

SECS Protocol: Part 2 (GEM)

10:20 am - 10:30 am

Break

10:30 am - 11:00 am

300mm Specification (PJ/CJ, CMS, STS) – Part 1

11:10 am - 11:50 am

300mm Specification (PJ/CJ, CMS, STS) – Part 2, 3

11:50 am - 12:00 pm

Q&A

12:00 pm - 1:00 pm

점심식사

1:00 pm - 1:50 pm

EDA Standard Overview

1:50 pm - 2:00 pm

Break

2:00 pm - 2:50 pm

EDA Standard Details – Part –I (E120, E125)

2:50 pm - 3:00 pm

Break

3:00 pm - 3:50 pm

EDA Standard Details – Part –II (E132, E134)

3:50 pm - 4:00 pm

Break

4:00 pm - 4:50 pm

EDA Reference Standards

4:50 pm - 5:00 pm

Q&A

Standards

본 교육은 반도체 장비 간 효율적인 통신을 위한 핵심 표준 SECS/GEM 부터, 자동화된 공장설비에서 대량 데이터를 신속하게 수집·처리하는 데 필수적인 표준 EDA까지 방대한 표준의 내용을 핵심 위주로 소개합니다. 

9:00 am - 5:00 pm Off Add to Calendar 2025-11-12 09:00:00 2025-11-12 17:00:00 SEMI 소프트웨어 표준교육 2025 본 교육은 반도체 장비 간 효율적인 통신을 위한 핵심 표준 SECS/GEM 부터, 자동화된 공장설비에서 대량 데이터를 신속하게 수집·처리하는 데 필수적인 표준 EDA까지 방대한 표준의 내용을 핵심 위주로 소개합니다.  대한민국 수원컨벤션센터 205호 SEMI.org [email protected] Asia/Seoul public Asia/Seoul
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REGISTRATION

Registration
과정일정교육비
회원사비회원사현장등록
기초과정11/11 (화)165,000원198,000원220,000원
중급과정11/12 (수)165,000원198,000원220,000원

※  부가세 포함 가격입니다.

  • 등록 및 결제 마감일: 2025년 11월 4일(수) 17시
  • 등록 절차: 통합등록사이트(semi_prog.sjinfotec.com) 접속 > 로그인 후 해당 프로그램 등록 신청 > 결제 > 등록완료
  • SEMI 회원사 확인 (바로가기)  
Registration
대한민국 SGT-web 기술 트레이닝

[OVERVIEW]

  • 교육명: SEMI 안전표준교육 2025 (하반기)
  • 일정: 2025년 11월 11일(화) – 12일(수)
  • 장소: 수원 컨벤션센터 202호
  • 주최: SEMI Korea
  • 문의: SEMI Korea 표준팀 (02-531-7899 / [email protected])  

 

[COURSE DETAILS]

  • 기초과정: 반도체 제조장비의 안전성 평가에 사용되는 SEMI S2 표준 내용을 소개하는 1일 이론과정
    • 일정: 2025년 11월 11일(화)
    • 대상: 반도체 장비 개발/설계 관련 엔지니어, 품질/규제 관련 실무자, 안전/환경(EHS) 관련 실무자
  • 중급과정: 반도체 제조장비의 배기(SEMI S6), 인체공학적 설계(SEMI S8), 전기적 설계(SEMI S22) 및 반도체 제조 설비에 사용되는 로봇, 무인 운송 차량 등의 가이드 라인(SEMI S28, S17) 등을 집중적으로 다루는 1일 이론과정
    • 일정: 2025년 11월 12일(수)
    • 대상: 경력 5년 내외 장비 개발/설계 엔지니어, 품질/규제 관련 실무자, 안전/환경(EHS) 관련 실무자  

 

[NOTICE]

  • 교육내용 및 순서는 강사 사정에 의해 임의로 변경될 수 있습니다.
  • 본 교육은 반도체 제조사 및 장비사를 대상으로 운영되며, 3자 인증기관의 수강신청은 제한됩니다.
  • 본 교육은 2가지 과정(기초, 중급) 중 희망하시는 과정을 신청하여 수강하시는 과정입니다.
  • 본 교육은 고용노동부 환급과정이 아닙니다.
  • 등록비에는 중식과 교재비가 포함되어 있으며, 교재는 교육 당일 현장에서 수령하실 수 있습니다.
  • 주차비는 지원하지 않습니다.
  • 참석확인증은 교육 종료 후, 통합등록사이트(semi_prog.sjinfotec.com)에서 사후 설문조사를 완료하시면 발급됩니다.  
     

대한민국
수원컨벤션센터

9:00 am - 9:40 am
전대영
전대영
부장
SGS

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (개요)

9:40 am - 9:50 am

휴식

9:50 am - 10:40 pm

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (Safety interlock, Emergency shutdown Ⅰ)

10:40 am - 10:50 am

휴식

10:50 am - 11:30 am

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (Safety interlock, Emergency shutdown Ⅱ)

11:30 am - 11:40 am

휴식

11:40 am - 12:30 pm

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (Electrical design, Fire protection)

12:30 pm - 1:30 pm

점심식사

1:30 pm - 2:10 pm

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (Ergonomic, Mechanical design, Ventilation Ⅰ)

2:10 pm - 2:20 pm

휴식

2:20 pm - 3:10 pm

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (Ergonomic, Mechanical design, Ventilation Ⅱ)

3:10 pm - 3:20 pm

휴식

3:20 pm - 4:00 pm

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (Environmental, Chemical, Radiation, Sound pressure level Ⅰ)

4:00 pm - 4:10 pm

휴식

4:10 pm - 4:50 pm

SEMI S2 반도체 제조장비에 대한 환경, 보건, 안전 가이드라인 (Environmental, Chemical, Radiation, Sound pressure level Ⅱ)

4:50 pm - 5:00 pm

Q&A

9:00 am - 9:40 am
박현준
박현준
과장
PCA

SEMI S6 반도체 제조장비 배기평가 가이드라인 (개요)

9:40 am - 9:50 am

휴식

9:50 am - 10:40 am

SEMI S6 반도체 제조장비 배기평가 가이드라인 (배기성능평가 절차 및 사례)

10:40 am - 10:50 am

휴식

10:50 am - 11:30 am

SEMI S28 반도체 제조 설비 사용을 위한 로봇과 Load Port의 가이드라인

11:30 am - 11:40 am

휴식

11:40 am - 12:30 pm

SEMI S17 무인 운송 차량 (UTV) 시스템에 대한 가이드라인

12:30 pm - 1:30 pm

점심식사

1:30 pm - 2:10 pm
임근영
임근영
부장
Safe World

SEMI S22 반도체 제조장비의 전기 설계 안전 가이드라인 (Section 1 - 7)

2:10 pm - 2:20 pm

휴식

2:20 pm - 3:10 pm

SEMI S22 반도체 제조장비의 전기 설계 안전 가이드라인 (Section 8 - 13)

3:10 pm - 3:20 pm

휴식

3:20 pm - 4:00 pm

SEMI S22 반도체 제조장비의 전기 설계 안전 가이드라인(Testing & Question)

4:00 pm - 4:10 pm

휴식

4:10 pm - 5:00 pm

SEMI S8 반도체 제조장비의 인체공학적 가이드라인 (개요)

- Sustainability Standards

2025년 9월 10일(수) 오전 10시 등록 오픈!

SEMI 안전표준은 전 세계 주요 반도체 제조사들에게 널리 채택되어 사용되고 있는 산업표준으로 안전한 반도체 제조장비를 설계하고 이를 평가하는데 매우 중요한 역할을 하고 있습니다. 본 교육에서는 이러한 SEMI 안전표준을 사용하는데 도움이 될 수 있도록 표준의 내용 및 적용 사례 등을 소개하고자 합니다.   

9:00 am - 5:00 pm Off Add to Calendar 2025-11-11 09:00:00 2025-11-12 17:00:00 SEMI 안전표준교육 2025 (하반기) 2025년 9월 10일(수) 오전 10시 등록 오픈!SEMI 안전표준은 전 세계 주요 반도체 제조사들에게 널리 채택되어 사용되고 있는 산업표준으로 안전한 반도체 제조장비를 설계하고 이를 평가하는데 매우 중요한 역할을 하고 있습니다. 본 교육에서는 이러한 SEMI 안전표준을 사용하는데 도움이 될 수 있도록 표준의 내용 및 적용 사례 등을 소개하고자 합니다.    대한민국 수원컨벤션센터 SEMI.org [email protected] Asia/Seoul public Asia/Seoul
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등록안내

Registration

사전등록은 9월 19일(금) 오후 5시에 마감됩니다.

 

[사전등록]

  • SEMI회원사/학생: 198,000
  • 비회원사: 231,000

[현장등록]

  • SEMI 회원사/비회원사: 253,000

 

※ 상기 가격은 부가세 포함 가격입니다.

Registration
대한민국 Test_Tutorial2025 기술 트레이닝

OVERVIEW

  • 교육명: SEMI 반도체테스트기술교육 2025
  • 일정: 2025년 9월 26일(금) 오전 9시 – 오후 5시 50분
  • 장소: 수원컨벤션센터 401호
  • 주최: SEMI Korea

 

NOTICE

  • 교육내용 및 순서는 강사 사정에 의하여 임의로 변경될 수 있습니다.  
  • 본 교육은 고용노동부 환급과정이 아닙니다.  
  • 등록비에는 교재비가 포함되어 있으며 교육 당일 교재를 현장에서 수령하실 수 있습니다.  
  • 중식이 제공되며, 주차비는 지원하지 않습니다.
  • 참석확인증은 교육 종료 이후 SEMI Korea 통합등록사이트(http://semi_prog.sjinfotec.com)에서 사후설문조사를 완료하시면 직접 다운로드 받으실 수 있습니다.  

 

CONTACT

 

TESTIMONIALS

  • Wafer Tester 개발자로서 테스트 방식에 대해 다시 한번 배울 수 있는 기회였고, 다른 강의보다 많은 도움이 됐습니다.   
  • 테스트 기술 동향파악에 도움이 되었습니다.  
  • 실제 업무 관련 내용을 이해하기 쉽게 설명해 주셨습니다.  

(2024년도 참석자 후기 발췌)

 

SPEAKERS FROM


 

대한민국
수원컨벤션센터 401호

8:30 am - 9:00 am

Welcome

9:00 am - 10:20 am
고진수
고진수
부사장
Cohu

Semiconductor Test and Market

- Semiconductor Market
- IC Manufacturing process
- ATE system architecture
- ATE Instrument structure
- Introduction of IC test

※ 연사정보

10:20 am - 10:35 am

Break

10:35 am - 11:55 pm
김정섭
김정섭
상무
Advantest

Power & Analog Test Introduction

LED driver, PMIC, BMIC, IGBT, Silicon Carbide등 Mobile, Automotive향 Power application의 전반적인 구조 및 동작을 설명하고 test에 필요한 기본적인 요소를 이해하도록 한다. 또한 이를 측정하기 위한 ATE hardware및 device의 신뢰도를 최대화할 test 방법 및 환경에 대해 설명한다.

※ 연사정보

11:55 am - 1:20 pm

Lunch

1:20 pm - 2:40 pm
오종익
오종익
상무
Teradyne

Mobile SOC RF Test Introduction

최근 초연결성 환경의 구축을 위해 반드시 필요한 RF device 및 marker trend 에 대해 소개하며, 최신(mmWave) 및 전통적으로 사용되고 있는 RF device 들의 test를 위해 필요한 조건 및 각각의 test 항목에 대한 이해를 통해 보다 effective 한 Test 환경 구축 방법에 대해 이해한다.

※ 연사정보

2:40 pm - 2:55 pm

Break

2:55 pm - 4:15 pm
오창수
오창수
대표이사
ElevenLabs

Interface/ DIB/ Socket/ Prober

반도체 검사 공정의 핵심 설비중의 하나인 TESTER 성능을 손실 없이 사용하기 위해서는 Test Socket, DIB(Device Interface Board), Probe Card 등의 interface 제품의 올바른 선택과 사용은 대단히 중요하며 특히 underkill일 때의 품질 issue 또는 overkill일 때의 양품 손실 등 품질과 비용측면에서 매우 큰 영향을 끼치는 핵심 구성품이라 할 수 있다. 기초적인 기능과 동작을 이해하고 사용자 입장에서의 올바른 제품의 선택을 위해 고려해야 할 사항들과 개발자 입장에서 설계와 개발 시 우선하여 관심을 가져야 할 부분을 살펴본다.

※ 연사정보

4:15 pm - 4:30 pm

4:30 pm - 5:50 pm
김경호
김경호
TL
SK hynix

DRAM:Wafer & Package

- Test Introduction
- Wafer Test Process Overview
- Package Test Process Overview
- Memory Test Hardware System Introduction

※ 연사정보

SEMI 반도체테스트기술교육은 DC, AC, Logic IC 기초 테스트 기술부터, 최근 크게 상용화되고 있는 모바일/IoT 관련 IC 응용 테스트 개발에 필수적인 SOC, RF, VLSI, 메모리, PMIC 테스트 기술에 대해 다루고 있습니다. 반도체 테스트 기초교육과 기업 현장에서 실제 개발되고 있는 차세대 응용기술을 소개합니다. 기존의 세미나 형태를 벗어나 실무교육 위주로 반도체 관련 분야 인력들의 실무 이해도·기술 기반 확장·커리어 향상을 지원하고, 취업 준비생에게는 반도체 테스트 엔지니어로의 전문 지식 확보와 취업 기회 확대를 지원합니다. 관심 있는 여러분의 많은 참여 부탁드립니다. 

Off Add to Calendar 2025-09-26 00:00:00 2025-09-26 00:00:00 SEMI 반도체테스트기술교육 2025 SEMI 반도체테스트기술교육은 DC, AC, Logic IC 기초 테스트 기술부터, 최근 크게 상용화되고 있는 모바일/IoT 관련 IC 응용 테스트 개발에 필수적인 SOC, RF, VLSI, 메모리, PMIC 테스트 기술에 대해 다루고 있습니다. 반도체 테스트 기초교육과 기업 현장에서 실제 개발되고 있는 차세대 응용기술을 소개합니다. 기존의 세미나 형태를 벗어나 실무교육 위주로 반도체 관련 분야 인력들의 실무 이해도·기술 기반 확장·커리어 향상을 지원하고, 취업 준비생에게는 반도체 테스트 엔지니어로의 전문 지식 확보와 취업 기회 확대를 지원합니다. 관심 있는 여러분의 많은 참여 부탁드립니다.  대한민국 수원컨벤션센터 401호 SEMI.org [email protected] Asia/Seoul public Asia/Seoul 등록 바로가기
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등록안내

Registration

등록이 마감되었습니다.

※ 정원 초과 시, 사전등록 종료 전에도 등록이 선착순 조기 마감될 수 있습니다.

 

[사전등록]

  • SEMI 회원사: 176,000
  • 비회원사: 209,000

[현장등록]

  • SEMI 회원사/비회원사: 231,000
  • 현재 현장등록은 불가능합니다.

 

※ 상기 가격은 부가세 포함 가격입니다.

Registration
대한민국 MI_main_banner 기술 트레이닝

OVERVIEW

  • 교육명: SEMI 반도체계측검사기술교육 2025
  • 일정: 2025년 11월 7일 금요일 오전 9시 - 오후 4시 50분
  • 대상: MI 관련 경력 5년 이상 엔지니어, MI 기술에 관심있는 관련 종사자 및 대학생
  • 장소: 코엑스 327호
  • 주최: SEMI Korea 


NOTICE

  • 참석확인증은 SEMI Korea 통합등록사이트(http://semi_prog.sjinfotec.com)에서 사후설문조사를 완료하시면 발급됩니다.
  • 등록비에는 교재비가 포함되어 있으며 당일 현장에서 수령하실 수 있습니다.
  • 주차비는 지원되지 않습니다.
  • 교육내용 및 순서는 강사 사정에 의하여 임의로 변경될 수 있습니다.
  • 본 교육은 고용노동부 환급과정이 아닙니다.


CONTACT

 

대한민국
코엑스 327호

9:00 am - 10:00 am
이병호
이병호
Senior Fellow
Hitachi High-Tech

Overview of MI

본 강의는 반도체 연구 및 제조 분야에서 점점 더 중요해지고 있는 Metrology & Inspection(MI) 기술에 대한 종합적인 이해를 돕기 위해 구성되었습니다. 반도체 소자의 구조가 더욱 정밀해지고 복잡해짐에 따라, 공정 제어 뿐만 아니라 기술 혁신을 가능하게 하는 핵심 요소로서 MI의 역할이 크게 확대되고 있습니다. 1부에서는 MI가 반도체 제조에서 얼마나 중요한 위치를 차지하고 있는지를 살펴봅니다. 현재 반도체 공정의 약 50%에 해당하는 공정 단계와 전체 투자액의 15% 이상이 MI에 할당되고 있으며, 이는 수율과 신뢰성, 성능 확보에 있어 MI가 필수적인 역할을 하고 있음을 보여줍니다. 특히, 반도체 기술이 미세화 되고 3차원 구조로 진화함에 따라 MI의 필요성과 요구사항은 더욱 다양해지고 있으며, 이에 따라 기술 개발 방향도 빠르게 변화하고 있습니다. 이 세션에서는 반도체 기술의 최신 경향과 MI 기술의 발전 방향을 함께 검토하는 시간을 갖습니다.

※ 연사정보

10:00 am - 10:10 am

Break

10:10 am - 11:10 am
이병호
이병호
Senior Fellow
Hitachi High-Tech

Inspection

2부에서는 검사 기술의 역사적 흐름과 각 기술의 원리 및 응용 사례를 중심으로 내용을 전개합니다. 먼저 광학 기반 검사 기술에 대해 역사적 배경과 함께 다양한 지식을 공유하고, 이어서 전자빔 기반 검사 기술에 대한 흥미로운 이야기와 실제 적용 사례를 소개할 예정입니다.

※ 연사정보

11:10 am - 11:20 am

Break

11:20 am - 12:20 pm
이병호
이병호
Senior Fellow
Hitachi High-Tech

Inspection

이 강의는 단순한 지식 전달을 넘어, 검사 기술에 대한 다양한 관점을 함께 논의하고 생각을 나누는 참여형 강의로 진행됩니다. 기술이 어떻게 작동하는지 뿐만 아니라, 왜 중요한지, 어떻게 발전하고 있는지, 그리고 반도체 산업의 미래에 어떤 의미를 갖는지를 함께 고민하는 시간이 될 것입니다.

※ 연사정보

12:20 pm - 1:40 pm

Lunch

1:40 pm - 3:10 pm
조종회
조종회
TL
SK hynix

Metrology

본 Tutorial 강의에서는 반도체 제조 공정에서의 계측(Metrology) 기본 원리와 활용 방법을 체계적으로 설명합니다. 광학, e-Beam(CD-SEM, HV-SEM) 등 주요 계측 장비의 측정 원리와 특성, 선택 기준을 다룹니다. 또한 Pattern Profile 분석, Overlay 분석 등 주요 계측 응용 사례를 소개하여, 전반적인 반도체 계측 공정에 대한 이해도를 높입니다. 또한, 차세대 반도체 공정에서 준비해야 할 차세대 미래 계측 과제와 대응 전략을 해설합니다.

※ 연사정보

3:10 pm - 3:20 pm

Break

3:20 pm - 4:50 pm
김덕인
김덕인
TL
SK hynix

Analysis

반도체 산업은 미세화 한계와 복잡한 구조적 변화로 새로운 전환점을 맞이하고 있습니다. 특히 Metrology & Inspection(MI) 기술은 공정 안정성과 생산성 확보를 위해 그 중요성이 급격히 높아지고 있으며, 첨단 MI 기술은 불량을 조기에 탐지하고 공정을 정밀하게 제어하는 핵심 역할을 수행하고 있습니다. 더욱이 신소재 적용 및 소자 구조가 복잡해질수록 정밀한 분석(Analysis) 기법의 필요성이 더욱 강조되고 있습니다. 최근에는 3D 구조 분석을 위한 파괴 방식의 in-line 분석법이 적용되고 있으며, 여기에 영상응용계측기술을 더한 핵심계측기술에 대한 혁신을 정리하려 합니다.

※ 연사정보

SEMI 반도체계측검사기술교육은 반도체 제조 공정에서 핵심적인 Inspection, Metrology, Analysis 기술을 심도 있게 다루는 전문 교육입니다. 본 과정에서는 반도체 검사, 계측 기술의 원리, 그리고 여러 가지 사례와 앞으로의 발전 방향에 대한 전반적인 리뷰가 있을 것입니다. 또한, 전반적인 검사, 계측 장비와 공정, 그리고 최신의 정밀한 분석 기법 및 핵심계측검사에 대한 혁신도 소개합니다. 구체적으로는 광학, e-beam 등 다양한 검사, 계측 장비의 측정 원리 및 특성에 대해 살펴보고, Pattern Profile 분석, Overlay 분석 응용 사례를 설명하면서, 3D 구조 분석을 위한 in-line 분석법과 영상응용계측기술 등을 알아봅니다. 업계 전문가들의 실무 중심 강의를 통해 현업 MI 엔지니어뿐만 아니라 반도체 분야 진출을 준비하는 인재들에게도 전문 지식 확장과 커리어 향상의 기회가 될 것입니다.

9:00 am - 4:50 pm Off Add to Calendar 2025-11-07 09:00:00 2025-11-07 16:50:00 반도체계측검사기술교육 2025 SEMI 반도체계측검사기술교육은 반도체 제조 공정에서 핵심적인 Inspection, Metrology, Analysis 기술을 심도 있게 다루는 전문 교육입니다. 본 과정에서는 반도체 검사, 계측 기술의 원리, 그리고 여러 가지 사례와 앞으로의 발전 방향에 대한 전반적인 리뷰가 있을 것입니다. 또한, 전반적인 검사, 계측 장비와 공정, 그리고 최신의 정밀한 분석 기법 및 핵심계측검사에 대한 혁신도 소개합니다. 구체적으로는 광학, e-beam 등 다양한 검사, 계측 장비의 측정 원리 및 특성에 대해 살펴보고, Pattern Profile 분석, Overlay 분석 응용 사례를 설명하면서, 3D 구조 분석을 위한 in-line 분석법과 영상응용계측기술 등을 알아봅니다. 업계 전문가들의 실무 중심 강의를 통해 현업 MI 엔지니어뿐만 아니라 반도체 분야 진출을 준비하는 인재들에게도 전문 지식 확장과 커리어 향상의 기회가 될 것입니다. 대한민국 코엑스 327호 SEMI.org [email protected] Asia/Seoul public Asia/Seoul 등록 바로가기
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등록안내

Registration
  • 사전등록 마감일: 2025년 9월 9일(화) 오후 5시
  • 기초과정
    • SEMI 회원사/학생: 176,000
    • 비회원사: 198,000
    • 현장등록가: 220,000
  • 심화과정 0.5 day
    • SEMI 회원사/학생: 99,000
    • 비회원사: 121,000
    • 현장등록가: 132,000
  • 심화과정 1 day
    • SEMI 회원사/학생: 176,000
    • 비회원사: 209,000
    • 현장등록가: 231,000
Registration
대한민국 SPT_web_banner 기술 트레이닝

OVERVIEW

  • 교육명: SEMI 반도체공정기술교육 2025
  • 일정
    • 기초과정: 2025년 9월 15일(월) 오전 10시 - 오후 4시 35분
    • 심화과정:  2025년 9월 16일(화)
      • [Course l: Thin Film]: 오전 9시 - 오후 12시 20분   
      • [Course ll: Etch]: 오후 1시 40분 - 5시
  • 장소: 수원컨벤션센터 203호
  • 주최: SEMI Korea


COURSE DETAILS

  • 기초과정: 반도체 기초개념과 반도체 제조공정을 소개하는 1일 이론과정
    • 대상: 반도체 분야 관련 실무자 중 반도체 비전공자, 경영지원팀, 기술영업 등  
  • 심화과정: 공정별 특성 및 심화과정을 소개하는 1일 이론과정  
    • 대상: 반도체 공정에 참여하고 있는 엔지니어 등 


NOTICE

  • 참석확인증은 SEMI Korea 통합등록사이트(http://semi_prog.sjinfotec.com)에서 사후설문조사를 완료하시면 발급됩니다.  
  • 등록비에는 교재비가 포함되어 있으며 당일 현장에서 수령하실 수 있습니다.   
  • 기초과정은 중식이 제공되며, 주차비는 지원하지 않습니다.  
  • 교육내용 및 순서는 강사 사정에 의하여 임의로 변경될 수 있습니다.  
  • 본 교육은 고용노동부 환급과정이 아닙니다. 


CONTACT

 

TESTIMONIAL

  • 현 엔지니어와의 만남을 통해 궁금증을 해소할 수 있는 시간이었습니다.
  • 반도체 공정 기술분야의 전반적인 기술 현황을 파악할 수 있었습니다.
  • 강사분들이 교육을 지루하지 않고 재미있게 풀어주셔서 집중이 잘 되었습니다.  

(2025년도 상반기 참석자 후기 발췌)

대한민국
수원컨벤션센터 203호

10:00 am - 4:35 pm
2.SPT2022(2H)_서강대학교 김상완 교수_사진_220915.jpg
김상완
교수
서강대학교

교육과정

10:00 am -10:50 am 반도체 산업 현황
10:50 am - 11:05 am Break
11:05 am - 12:15 am 반도체 소자 구조 및 동작 원리
12:15 am - 2:00 pm Lunch
2:00 pm - 3:10 pm 실리콘 칩 제작 공정
3:10 pm - 3:25 pm Break
3:25 pm - 4:35 pm 실리콘 칩 제작 공정

※ 연사정보

9:00 am - 10:00 am
강동균
강동균
TL
SK hynix

Thin Film

최근 반도체 산업은 초고속, 저전력, 고집적 등 메모리 소자의 성능을 향상시키기 위한 방향으로 연구 개발을 활발하게 추진하고 있습니다. 반도체 소자를 실제로 구현하고 제품으로 만들어 내는 반도체 제조 공정은 웨이퍼 제조부터 패키징까지의 모든 단계를 포함하며 기술 혁신을 통한 반도체 칩 성능의 극대화를 위해 새로운 소재 도입 및 장비 개발과 함께 기존 소자의 구조를 개선하는 등의 다양한 방면으로 연구를 병행하고 있습니다.
본 강의는 먼저 반도체 산업의 특징 및 글로벌 반도체 산업 생태계 동향 파악과 함께 웨이퍼 위에 회로를 새기는 과정인 전공정 (Front-end Process), 완성된 칩을 보호하고 테스트하는 과정인 후공정 (Back-end Process) 을 포함한 반도체 제조 공정의 전반적인 내용에 대해 간단하게 살펴보고 이후 Thin Film 공정의 기본 개념 및 용어와 함께 해당 공정의 증착 방법, 각 증착 물질의 특징과 장단점에 대해 이해하고 이를 바탕으로 특히, Dielectric, Metal 물질별 응용 사례를 파악하여 Thin Film 공정에 대한 이해도를 높이는 과정입니다.

※ 연사정보

10:00 am - 10:10 am

Break

10:10 am - 11:10 am
강동균
강동균
TL
SK hynix

Thin Film

11:10 am - 11:20 am

Break

11:20 am - 12:20 pm
강동균
강동균
TL
SK hynix

Thin Film

12:20 pm - 1:40 pm

Lunch

1:40 pm - 2:40 pm
박용신 수석.png
박용신
수석
Samsung Electronics

Etch

최근 반도체 집적도가 증가하면서 Patterning 공정에 대한 난이도 역시 급격히 증가하고 있다. 특히 2D 및 3D Patterning을 모두 담당하는 Etching 공정의 중요성은 그 어느 때 보다도 높아진 상황이다.
본 강의에서는 Etching process를 구현하는데 필수적인 Plasma physics 및 engineering을 소개하고, Etching mechanism 및 주요 물질 별 Etching chemistry, 차세대 Etching 기술 트렌드 등을 조망하고자 한다.

※ 연사정보

2:40 pm - 12:50 pm

Break

2:50 pm - 3:50 pm
박용신 수석.png
박용신
수석
Samsung Electronics

Etch

3:50 pm - 4:00 pm

Break

4:00 pm - 5:00 pm
박용신 수석.png
박용신
수석
Samsung Electronics

Etch

-

SEMI 반도체공정기술교육은 반도체 장비 및 재료 분야 종사자들이 반도체 제조공정을 깊이 이해하고, 업무를 원활히 수행할 수 있도록 지원합니다. 이 교육은 반도체 장비 및 재료 제조에 종사하는 엔지니어, 기획 및 마케팅 실무자, 제조업체 기술영업사원, 이공계 학생을 대상으로 합니다. 웨이퍼 제조부터 공정 결함을 측정/계측하는 MI기술까지, 반도체 칩 제조공정을 한눈에 볼 수 있는 기회를 제공하오니 많은 관심과 참여를 부탁드립니다.

Off Add to Calendar 2025-09-15 00:00:00 2025-09-16 00:00:00 SEMI 반도체공정기술교육 2025 SEMI 반도체공정기술교육은 반도체 장비 및 재료 분야 종사자들이 반도체 제조공정을 깊이 이해하고, 업무를 원활히 수행할 수 있도록 지원합니다. 이 교육은 반도체 장비 및 재료 제조에 종사하는 엔지니어, 기획 및 마케팅 실무자, 제조업체 기술영업사원, 이공계 학생을 대상으로 합니다. 웨이퍼 제조부터 공정 결함을 측정/계측하는 MI기술까지, 반도체 칩 제조공정을 한눈에 볼 수 있는 기회를 제공하오니 많은 관심과 참여를 부탁드립니다. 대한민국 수원컨벤션센터 203호 SEMI.org [email protected] America/Los_Angeles public 등록 바로가기
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대한민국 CO25 트레이닝

OVERVIEW

  • 일시 및 장소:
    • [온라인] 8월 18일(월) – 8월 20일(수): 온라인 플랫폼 Zoom  
    • [오프라인] 8월 25일(월) – 8월 26일(화): 서울 코엑스 3층 E홀
  • 대상: 이공계 대학생 및 취업준비생
  • 참가비: 무료
     
     

SPONSORS

03.-PSK.jpg 06.-ASM_2.jpg
KLA
11.-Entegris.jpg
   

 

등록안내

  • 사전등록기간 : 7월 28일(월) 오전 10시 - 8월 11일(월) 오후 5시
  • 모든 참석자의 등록정보는 행사 참여기업과 공유되오니 정확한 정보를 기재하여 주십시오.
  • 사전등록기간 중 정보 수정 및 등록 취소가 가능합니다. 단, 마감 이후에는 변경이 불가합니다.
  • 온라인 세션 등록
    • 정원 제한이 없으며, 하기 아젠다에서 세션별로 신청 가능합니다.
  • 오프라인 세션 등록
    • 선착순으로 마감되며 1인 1계정으로 운영합니다. 동일인이 다수의 계정으로 중복 등록하는 경우, 운영자 임의로 무통보 계정 삭제 가능하며 행사 참여에 불이익이 있을 수 있습니다.
    • 정원이 한정되어 있으므로 타 학생들을 위해 노쇼(No-Show)는 피해주시기 바랍니다.

 

NOTICE

  • 참석확인증 또는 연사 연락처는 제공되지 않습니다.
  • 문의: SEMI 프로그램팀 ([email protected])

 

AGENDA

#1. 온라인 세션

  • 세션에 명시된 학과를 전공한 현직자와, 기업 인사 담당자로부터 직무 및 기업에 대한 정보를 들을 수 있습니다. 반도체 산업으로의 취업을 고려하고 있는 이공계 대학생 또는 취업준비생이라면 누구나 본 온라인 세션을 신청할 수 있습니다.
일정
8월 18일(월)
8월 19일(화)
8월 20일(수)
13:00 - 13:30
13:40 - 14:10

 

 

 

 

일정
8월 18일(월)
8월 19일(화)
8월 20일(수)
14:20 - 14:50
15:00 - 15:30
15:40 - 16:10
16:20 - 16:50

 

 

온라인 세션은 Zoom을 통해 실시간으로 진행되며, 다시보기(VOD)는 제공되지 않습니다. 세션을 무단으로 녹화하거나 배포할 경우 저작권법에 따라 법적 책임을 질 수 있습니다. 

 

#2. 오프라인 세션

  • 오프라인 세션은 신입 구직자를 대상으로 하는 행사로, 기업 인사담당자 및 현직자와 직접 대면하는 자리입니다. 본 세션은 이공계 대학생 또는 이공계 학사 졸업을 마친 미취업자만 신청할 수 있습니다.

     

 

 

 

CAMPUS OUTREACH 2024 PHOTOS

대한민국
서울

- Workforce Development

Campus Outreach는 대학 졸업 후 반도체 산업으로 진출하게 될 이공계 대학생을 대상으로 전공별 직무 및 커리어패스에 대한 멘토링과 반도체 산업 내 다양한 회사에 대해 탐색할 수 있는 기회를 제공합니다. 5일간 하이브리드로 진행되는 본 행사는, 반도체 산업으로 진로를 고려하는 이공계 대학생 및 취업준비생이라면 누구나 참여하실 수 있으므로 관심있는 여러분의 많은 참여를 기대합니다. 

Off Add to Calendar 2025-08-18 00:00:00 2025-08-26 00:00:00 CAMPUS OUTREACH 2025 Campus Outreach는 대학 졸업 후 반도체 산업으로 진출하게 될 이공계 대학생을 대상으로 전공별 직무 및 커리어패스에 대한 멘토링과 반도체 산업 내 다양한 회사에 대해 탐색할 수 있는 기회를 제공합니다. 5일간 하이브리드로 진행되는 본 행사는, 반도체 산업으로 진로를 고려하는 이공계 대학생 및 취업준비생이라면 누구나 참여하실 수 있으므로 관심있는 여러분의 많은 참여를 기대합니다.  대한민국 서울 SEMI.org [email protected] Asia/Seoul public Asia/Seoul
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