愛德華先進科技讓最耗電的EUV製程節能減碳有感

 

半導體先進製程的發展，實現了AI、5G、高效能運算，甚至讓元宇宙(metaverse)的想像成為可能；而當先進製程不斷演進以實現各種未來科技時，EUV曝光製程正扮演至關重要的角色，就像所有血液流過心臟，IC晶片的層層製造，也從曝光(lithography)開始，持續推進線寬線距的物理極限。同時，隨著EUV在先進製程的導入，其用電量與碳排受到極大關注與討論，加上碳價也勢不可擋地成為企業必須考量的成本時，如何在實現IC晶片創新時，同步實踐永續製造，儼然成為半導體基業長青的重要關鍵。

 

愛德華先進科技(簡:愛德華)以百年的真空技術引領發展，以泵浦驅動晶圓製造，同時提供廢氣處理設備，持續協助客戶達成節能減排的目標，減少製程對環境的衝擊。在EUV的領域，愛德華更扮演獨一無二的角色，與EUV領導製程設備龍頭廠商合作，投入超過20年的技術研發；提供全球晶圓大廠在此製程所需的節能與減排解決方案 - EUV Zenith整合系統，EUV Zenith 2021年的綠色製造系列H2D，更利用稀釋原理，透過再利用系統本身的熱排，稀釋EUV製程過程中產生的廢氫，取代現行的燃燒作法，減少能源消耗，H2D方案每年每系統可為晶圓廠減少210噸的碳排；並在實踐綠色製造的同時，更兼顧晶圓製造的生產營運績效，維持高達99.8%的稼動率。

 

此外，愛德華下世代的EUV Zenith (Gen 3)系統搭配搭配的乾式泵浦，每年更可為每台EUV製程設備減少至少150噸的碳排。兩者相加，即可省下約360噸的碳排；以愛德華在此領域的高市場覆蓋率，全球超過140台的安裝量，每年共可減少5萬噸的碳排，相當於近130座大安森林公園一年的碳吸收量。

 

邁向永續製造，減少碳排與廢氣對環境的衝擊，愛德華更進一步研發氫氣循環再生的技術，讓EUV製程中產生的廢氫可以直接在廠務端就循環成製程可再利用的純氫，直接帶來的好處是，製程端需要的氫氣總使用量大幅減少，而廠務端需要處理的廢氫量也顯著降低，整體提高氫氣資源的使用效率。

 

愛德華先進科技總經理林偉表示：「持續投資未來，從科技、環境、人才等面向，為客戶、關鍵合作夥伴和整個社會增加長期且永續的價值，是我們的承諾。」愛德華除了以各種智慧化節能減排系統協助客戶達成綠色轉型的同時，更從自身做起，以永續為核心價值，持續提升，如EUV Zenith系統在過去5年即實現高達49.6%的能耗減少；我們更將再生能源導入營運、運輸優化並跨及到相關供應鏈，邀請上下游合作夥伴加速減碳行動，化挑戰為助力，一同實踐綠色轉型以致永續製造。