downloadGroupGroupnoun_press release_995423_000000 copyGroupnoun_Feed_96767_000000Group 19noun_pictures_1817522_000000Member company iconResource item iconStore item iconGroup 19Group 19noun_Photo_2085192_000000 Copynoun_presentation_2096081_000000Group 19Group Copy 7noun_webinar_692730_000000Path
メインコンテンツに移動

SEMICON Japanスタンダード賞 

By Keigo Nakajima, SEMI Japan

SEMIスタンダードプログラムは、アメリカ、ヨーロッパ、日本、韓国、台湾、中国などの主要なエレクトロニクス製造地域で運営されており、製造効率と相互運用性を高めています。
2,000社以上の企業を代表する5,000人以上のボランティアが、21のグローバルな技術委員会と200以上のタスクフォースで、共通の技術的課題に対する解決策を模索しています。

SEMI Japan スタンダード賞は、日本における標準化活動に多大な貢献をした個人またはグループに与えられます。

今回の受賞は、2021年12月15~17日に東京ビッグサイトで開催された、マイクロエレクトロニクス製造サプライチェーンに関する世界有数の国際展示会であるSEMICON Japan2021HybridのSEMI Standardsパビリオンで発表されました。

SEMIスタンダード日本地区各技術委員会共同議長から推薦された個人に対して以下の表彰が行われました。

SEMI Standard Awards: SEMI Japan Honor Award(SEMI Japan功労賞)

今年の「SEMI Japan功労賞」は荒木浩之氏に贈られました。
荒木浩之氏は、長年にわたりLiquid Chemicals 技術委員会におけるスタンダード活動においてご活躍いただくと共に、2013年からは日本地区Liquid Chemicals技術委員会の共同議長として、コミュニケーションの円滑化に大きく貢献してきました。

SEMICON Japan 2021 Awards

Mr. Hiroyuki Araki, SCREEN Semiconductor Solutions Co., Ltd.
株式会社SCREENセミコンダクターソリューションズ 荒木浩之氏

SEMI Standard Awards: Technical Committee Awards(技術委員会賞)

受賞者と受賞理由は次のとおりです。

技術委員会名

氏名

所属

受賞カテゴリー

Silicon Wafer

Shingo Sumie
住江 伸吾

Kobelco Research

Institute, Inc.
株式会社コベルコ科研

1,2

Information & Control

(I&C)

Albert Fuchigami
渕上 アルバート

PEER Group
ピアグループ

3

Metrics

Supika Mashiro
真白 すぴか

Tokyo Electron

Limited
東京エレクトロン株式会社

2

Physical Interfaces & Carriers

 (PI&C)

Hayato Iwamoto
岩元 勇人

Sony Semiconductor

Solutions Corporation
ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社

2,3

Physical Interfaces & Carriers

(PI&C)

Hisashi Gotoh
後藤 寿

Sony Semiconductor

Solutions Corporation
ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社

2,3

Physical Interfaces & Carriers

(PI&C)

Naomune Taniguchi
谷口 直宗

TOKYO SEIMITSU

CO., LTD.
株式会社東京精密

2,3

Flat Panel Display (FPD) –

Materials & Components

Atsushi Uehigashi
上東 篤史

MORESCO Corporation
株式会社MORESCO

1

受賞カテゴリー:日本地区技術委員会において、次のいずれかに定めるところにより、優れた活動を行った。

1.初めてドキュメント開発をリードした
2.開発リーダーとしてドキュメント開発に多大な貢献をした
3.委員会の運営と委員に貢献した
4.タスクフォース活動の調整と他の協会との協力促進に貢献した
5.SEMIスタンダードの普及に貢献した 

 

Shingo Sumie (Kobelco Research Institute, Inc.) / Global Silicon Wafer Japan TC Chapter
住江 伸吾(株式会社コベルコ科研)

ドキュメント(New Standard  SEMI M89-0721: Test Method for Recombination Lifetime of the Epilayer of the Silicon Epitaxial Wafer (p/p+, n/n+) by the Short Wavelength Excitation Microwave Photoconductive Decay Method) の開発を初めてリードし、リード開発者として大きな貢献をした。

 

Albert Fuchigami (PEER Group) / Global I&C Japan TC Chapter  
渕上 アルバート(ピアグループ)

北米からの都合の悪い時間にもかかわらず委員会/TF活動に積極的に参加していること、北米リエゾン活動の報告、DDA TFを中心とした詳細な説明、日本地区委員会の活動に対する意見表明など。

 

Supika Mashiro (Tokyo Electron Limited) / Global Metrics Japan TC Chapter
真白 すぴか(東京エレクトロンエレクトロン株式会社)

ドキュメント(Revision to SEMI E136-1104: SEMI E136-0122 - Test Method for Determining the Output Power of RF Generators Used in Semiconductor Processing Equipment RF Power Delivery Systems )の作成に大きく貢献した。

 

Hayato Iwamoto (Sony Semiconductor Solutions Corporation) / Global PI&C Japan TC Chapter
岩元 勇人 (ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)

Hisashi Gotoh (Sony Semiconductor Solutions Corporation) / Global PI&C Japan TC Chapter
後藤 寿 (ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社)

Naomune Taniguchi (TOKYO SEIMITSU CO., LTD.)  / Global PI&C Japan TC Chapter
谷口 直宗 (株式会社東京精密)

300mmテープフレームFOUP(New Standards  SEMI E184-1221: Specification for 300 mm Tape Frame FOUP Load Port, SEMI E185-1221: Specification for 300 mm Tape Frame FOUP ).の標準化に向けたタスクフォース活動の調整とドキュメント作成に貢献した。

 

Atsushi Uehigashi (MORESCO Corporation) / Global FPD Materials & Components Japan TC Chapter
上東 篤史 (株式会社MORESCO)

ドキュメント(New Standard SEMI D80-0421: Test Method for Measurement of Water Vapor Transmission Rate for High Gas Barrier Plastic Film in a Short Time)の開発を初めて主導した。

 

参加方法

SEMIスタンダードの開発活動は、全主要製造地域で年間を通じて行われています。
参加をご希望の際は、SEMIインターナショナルスタンダードプログラム www.semi.org/standardsmembership.よりご登録をお願いします。

詳細につきましては、 SEMIスタンダードの Webサイト また 最新イベント ページをご参照ください。 SEMIスタンダード活動についてご質問がございましたら、  SEMIスタンダード担当者までお問い合わせください。

 

Standards Watch
SEMI
www.semi.org
March 7, 2022