downloadGroupGroupnoun_press release_995423_000000 copyGroupnoun_Feed_96767_000000Group 19noun_pictures_1817522_000000Member company iconResource item iconStore item iconGroup 19Group 19noun_Photo_2085192_000000 Copynoun_presentation_2096081_000000Group 19Group Copy 7noun_webinar_692730_000000Path
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2024-10-24
2024-10-24

シリコンウェーハ世界出荷面積は2025年に急回復へ

<ご参考資料>
米国カリフォルニア州で2024年10月21日(米国時間)に発表されたプレスリリースの翻訳です。

 

SEMI(本部:米国カリフォルニア州ミルピタス)は、10月21日(米国時間)、SEMIの年次シリコンウェーハ出荷面積予測において、シリコンウェーハの世界出荷面積が、2024年は前年比2%減の121億7,400万平方インチとなった後、2025年には10%増の133億2,800万平方インチへ急回復する見込みであることを明らかにしました。

シリコンウェーハの力強い成長は、AIおよびアドバンストプロセスからの需要増大に応じた世界的なファブ稼働率の改善により、2027年まで継続することが予測されます。これに加えて、アドバンストパッケージングおよび広帯域メモリ(HBM)の新たなアプリケーションからのウェーハ消費拡大が、シリコンウェーハの需要を押し上げています。こうしたアプリケーションとしては、仮/永久接合キャリアウェーハ、インターポーザー、チップレットのデバイス分割、メモリ/ロジックアレイ分割があります。
 

グラフ

 

*電子グレードシリコンウェーハの総出荷面積(ノンポリッシュトおよび再生ウェーハを除く);半導体アプリケーション向けのみ、太陽光発電向けは除く

 

シリコンウェーハは半導体の基本材料であり、半導体は、コンピューター、通信機器、家電をはじめとするあらゆるエレクトロニクス関連製品において極めて重要な部品です。シリコンウェーハは、高度な技術で作られた薄い円盤状の素材で、最大300mmまでの様々な直径で製造されており、ほとんどの半導体デバイス(チップ)の基板材料として使われています。

本リリースで用いている数値は、ウェーハメーカーよりエンドユーザーに出荷されたポリッシュドウェーハとエピタキシャルウェーハを集計したものです。ノンポリッシュドおよび再生ウェーハは含まれません。

SEMIの年次シリコン出荷面積予測は、Silicon Manufacturers Group(SMG)のメンバーが提出する情報に基づいて行われます。SMGはSEMIのElectronic Materials Group(EMG)の分科会であり、多結晶シリコン、単結晶シリコン、シリコンウェーハ(カット、ポリッシュト、エピなど)の製造に関わるSEMI会員の組織です。SMGは、シリコンおよび半導体業界の市場情報や統計の作成など、業界課題への取り組みを推進しています。

詳細については、SEMI Worldwide Silicon Wafer Shipment StatisticsSEMI市場情報のページをご覧ください。

 

本リリースに関するお問合せ

統計について:
SEMIジャパン マーケティング部(佐藤、堂本)
Email:[email protected]

メディア・コンタクト:
井之上パブリックリレーションズ
関、菊池
Email:[email protected]