森崎 健史

1987年横浜国立大学　工学部　応用化学科卒。大学卒業後リソグラフィープロセスエンジニアとして半導体メーカに入社、プロセス開発から量産工場への技術移管まで携わる。1999年に半導体製造検査装置メーカに転職し、リソグラフィー分野の技術コンサルティング、リソ関連ソリューションのリージョナルプロダクトマネージメントなどに携わる。2004年にASMLに入社、現在に至る。