2008年 「カレル・アーバネック記念賞」受賞者発表

2008年7月16日

2008年 SEMIインターナショナルスタンダード最高栄誉賞
「カレル・アーバネック記念賞」受賞者発表

Komatsu Silicon Americaのポール・ランガー博士が受賞



SEMI(本部:米国カリフォルニア州サンノゼ)は、米国時間7月15日(火)、米国カリフォルニア州サンフランシスコで開催中の半導体製造装置・部品材料の国際展示会「SEMICON West 2008」(主催:SEMI)において、SEMIインターナショナルスタンダード賞の授与式を行いました。
SEMIスタンダードにおける最高栄誉賞である「カレル・アーバネック記念賞(The Karel Urbanek Memorial Award)」は、Komatsu Silicon America, Inc.のポール・ランガー博士(Dr. Paul Langer)が受賞されました。

カレル・アーバネック記念賞は、Tencor Instruments(現在、KLAと合併しKLA-Tencor)の創業者であり、SEMIの役員として国際的な見地からSEMIスタンダードの拡大発展を推し進めた故カレル・アーバネック氏の業績を称えて、1992年に創設されました。SEMIのスタンダード活動に貢献し、半導体・FPD分野のスタンダード開発において傑出したリーダーシップを発揮した個人に対して授与されます。受賞者は、SEMIの国際スタンダード委員会によって選出されます。

ランガー博士のカレル・アーバネック記念賞受賞に際し、SEMIのプレジデント兼CEO スタンリー・マイヤーズ(Stanley Myers)は次のように述べています。
「ランガー博士の長年にわたる半導体製造装置および材料分野への多大な貢献を称え、本年のカレル・アーバネック記念賞を贈ります。博士のSEMIスタンダード開発における功績は業界に非常に大きな影響を与え、その活動の国際化においても積極的にリーダーシップを発揮されました。」

ランガー博士は、40年を超える長きにわたり、シリコン材料分野のスタンダード活動に積極的に貢献され、4探針抵抗率と抵抗率変化・真性キャリア密度のC-V法測定・酸化膜厚を含む、シリコン結晶材料特性の多数の試験方法開発の中心的存在として活躍されました。さらに、データ解析と統計分析に関する広範な知見を実験データ解析の手法開発に活かされました。

また、博士は、SEMIスタンダード活動が始まった1970年代前半から、シリコンウェーハ委員会において積極的に活動され、ウェーハマーキングやエピタキシャルウェーハをも含む多岐にわたるシリコンウェーハ仕様の標準化に取り組まれました。1990年代初めには、パーティクル計測における初期の活動に貢献されました。

<参考>

SEMIスタンダードとは:
SEMIスタンダードは、世界中の半導体やFPD製造において広く利用されている装置・材料についての業界自主基準です。現在、11分野で780を超えるスタンダードが出版されています。SEMIスタンダードは、デバイス製造側(ユーザー)からの要求をもとにサプライヤの専門知識を結集して開発されており、世界中の多くの関係者により、準拠すべき仕様・技術標準として活用されています。
SEMIスタンダード活動は1973年にシリコンウェーハの標準化から始まりました。現在では18のグルーバル技術委員会があり、世界中で約1,700名のスタンダード委員が活動しています。 >> http://www.semi.org/standards

SEMICON West 2008 開催概要:
会期:展示会 7月15日(火)~17日(木)、 併催イベント 7月14日(月)~18日(金)
会場:Moscone Center(米国カリフォルニア州サンフランシスコ)
>> http://www.semiconwest.org/