第15回 STS Award 受賞者発表

2008年3月24日

第15回 STS Award 受賞者発表
－　授賞式は12月3日（水）、STS 2008 会場にて　－

SEMI（本部：米国カリフォルニア州サンノゼ）は、本年で15回目を迎える2008年STS Award (SEMI Technology Symposium Award)受賞者を下記の通り発表いたします。

2008年のSTS Awardは、2007年12月に開催された「セミコン・ジャパン 2007」で行われた技術シンポジウム「SEMIテクノロジーシンポジウム(STS)」全講演の中から、1) 技術面での情報の価値･有用性、2) 適時性・タイミング、話題性・オリジナリティ、3) プレゼンテーション　の3点において優れているとして選出された講演に授与されるものです。STS Awardの選考にはSTSプログラム委員会があたり、選考にあたっては聴講者アンケートの結果も参考にされています。本年の受賞者は、2～3月にかけて開催されたSTSプログラム委員会のレビュー委員会において最終選考が行われました

第15回STS Awardの受賞者および受賞講演タイトルは下記の通りです。

 

旭硝子株式会社　高木 悟 （タカキ サトル）
　「MEMS用封止ガラスと接合材料の可能性　

NECエレクトロニクス株式会社　津本 卓也 （ツモト タクヤ）
　「伝送速度10Gbps超におけるテスト治工具の設計技術」

株式会社ザイキューブ　元吉 真 （モトヨシ マコト）
　「イメージセンサー用単純TSVウエハレベルCSP技術とその応用」

Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd.　Wen-Chin Lee （ウェンチン・リー）
　「Metallized Source/Drain Extension (MSDE) for High-Performance CMOS Applications」

株式会社東芝　井上 壮一 （イノウエ ソウイチ）
　「Double Patterning技術開発戦略と課題」

日本電気株式会社　石綿 延行 （イシワタ ノブユキ）
　「SoC混載に適したMRAM技術」

株式会社日立製作所　田中 潤一 （タナカ ジュンイチ）
　「ゲート寸法ばらつき制御モデルとその可搬性」

本賞の授賞式（第15回STS Award受賞記念講演）は、2008年12月3日（水）、「STS 2008」の中で執り行います。

「第15回STS Award受賞記念講演」  
  STS Awardの授賞式および受賞スピーチを行います。どなたでも無料でご出席いただけ、事前のお申し込みは不要です。
  ◎ 日程： 2008年12月3日（水）  
  ◎ 会場： 幕張メッセ国際会議場2F コンベンションホール  




＜参考＞
■ SEMIテクノロジーシンポジウム（STS）：
毎年12月、セミコン・ジャパン開催時に開催している技術シンポジウム。1982年に第1回を開催、本年で27回目を迎える。半導体プロセス・デバイス技術を中心に、先端技術動向、技術課題、その実用化技術が第一線の技術者から発表される。
2007年のSTSでは、基調講演のほかに10の技術セッションで110講演が行われ、のべ2,491人が聴講した。本年は12月3日（水）～5日（金）の3日間、幕張メッセ国際会議場で開催予定。また本年のプログラムは10月初旬に発表予定。