SEMIの日本地区におけるスタンダード各賞 受賞者発表

2007年11月16日
 

SEMIの日本地区におけるスタンダード各賞 受賞者発表
2007年の日本地区スタンダード賞は、Advanced Interface Technologyの加藤凡典氏が受賞

 
SEMI(本部:米国カリフォルニア州サンノゼ)は、2007年の日本地区スタンダード賞受賞者を、下記の通り発表いたします。

SEMI・ジャパン・スタンダード賞

 
 

Advanced Interface Technology

加藤 凡典 (カトウ カズノリ)

     

SEMI国際協力賞

 
 

村田機械株式会社

深澤 博 (フカザワ ヒロシ)

 

株式会社システムブイ

新 佳久 (シン ヨシヒサ)

 

株式会社ダイヘン

音川 泰伸 (オトガワ ヤスノブ)

JRSC功労賞

 
 

日本エー・ディー・イー株式会社

吉瀬 正典 (ヨシセ マサノリ)

(敬称略)

 

授賞式は、12月5日(水)より幕張メッセで開催する世界最大規模の半導体製造装置・部品材料の展示会「セミコン・ジャパン 2007」において、6日(木)18時より執り行います。(授賞式会場:ホテルニューオータニ幕張 「翔の間」)

「SEMI・ジャパン・スタンダード賞」は、日本地区におけるSEMIスタンダードの最高栄誉賞です。
受賞者の加藤 凡典(カトウ カズノリ)氏は、2001年に日本地区スタンダード委員会(JRSC:Japan Regional Standards Committee)傘下にSPI(Standards Process Integration)タスクフォースが設立された当初から、積極的に参画されてきました。標準規格作成のプロセス改善に様々な提案をされており、同氏の広範で高い見地からの提言は、規約改訂を含めた改善活動に大きな貢献をされました。

写真:2007年スタンダード賞受賞者 加藤凡典氏

同氏はまた、関連他団体との継続的で緊密な関係を構築されていますが、『特定非営利活動法人(NPO)エコデザイン推進機構内「半導体エコ物流プロジェクト」』で提議された議題をSEMIスタンダード活動に繋げるなど、様々な活動を通じて、後工程分野におけるSEMIスタンダード活動の促進、質および価値の向上に貢献されました。また、近年、後工程分野のSEMIスタンダード活動が低迷する中で、パッケージング委員会の活性化にも尽力されました。特に、北米地区パッケージング委員会およびテスト委員会解散後のドキュメント改訂等について、これを日本地区の委員会で引き受けるなど、両分野において国際的に中心的存在として活躍され、後工程分野におけるSEMIスタンダード活動継続に不可欠な存在と言っても過言ではありません。さらに、同氏は、後工程分野にとどまらず、前工程と後工程の活動の融合にも積極的に取り組まれるなど、多方面でリーダーシップを発揮されてきました。
同氏の受賞は、このようなSEMIスタンダード活動への顕著な貢献が評価されたものです。

「SEMI国際協力賞」は、2003年、SEMIスタンダード委員会FPDテクノロジ部会(当時)が新たにFPD基板・搬送・装置委員会として発足して以来、急速に拡大してきたFPD基板の大型化に対応すべくファクトリオートメーション(FA)の立場から意欲的に標準化に取り組まれてきた、深澤 博(フカザワ ヒロシ)氏、新 佳久(シン ヨシヒサ)氏、音川 泰伸(オトガワ ヤスノブ)氏の三氏に授与されます。
SEMIスタンダードの開発においては、ユーザーであるパネルメーカー側からの情報提供が不可欠です。三氏は、日本地区以外にはFA分野の委員会組織が無い中で、特に台湾パネルメーカーとの関係構築に努力され、SEMI主催の展示会「FPD Taiwan」においては2004年より同委員会主催のスタンダード・ワークショップ開催を実現されるなど、特に台湾パネルメーカーとの緊密な協調関係の構築に尽力され、国際標準の策定に貢献されました。

「JRSC功労賞」は、SEMIジャパンの草創期からシリコンウェーハ技術委員会の活動に参加され、長年にわたり尽力された、吉瀬 正典(ヨシセ マサノリ)氏に授与されます。
同氏は、特に、1995年に設立されたインターナショナルAWG(Advanced Wafer Geometry)タスクフォースで、デバイスの微細加工に求められるウェーハ平坦度、ナノトポグラフィ、エッジ形状等の測定と標準規格作成において大きな貢献をされました。また、世界各地で開催されるセミコン・ショー併催のスタンダード委員会・ワークショップ等に参加され、各地域の委員と密接なコミュニケーションをはかり、国際的調整力と情報力を発揮されました。

 

<ご参考>

■ SEMIスタンダード賞授賞式:
12月6日(木)18:00~20:00にホテルニューオータニ幕張「翔の間」で開催するSEMIスタンダードのフレンドシップパーティー席上で行います。スタンダード活動に参加されている方はどなたでもご出席いただけます。

■ 日本地区スタンダード賞:
JRSCが、セミコン・ジャパン開催時に、SEMIの日本地区におけるスタンダード活動において傑出したリーダーシップを発揮したスタンダード委員に授与している賞で、SEMI ジャパン スタンダード賞、国際協力賞、特別賞、功労賞の各賞があります。(本年の特別賞は該当者無し)

■ SEMIスタンダード活動:
SEMIスタンダードは、世界中の技術者に広く利用されている半導体、フラットパネルディスプレイおよびMEMS関連製造装置・材料の国際標準で、現在、11分野、750を超える規格があり、年間約50規格が新規開発され、約200規格が改訂されています。SEMIスタンダードの策定には、世界各地のデバイス、製造装置、材料のメーカー等の関係者が参加する「SEMIスタンダード委員会」があたっており、現在、全世界で約1,800人の委員が活動しています。
≫ www.semi.org/standards