SEMI・ジャパン・スタンダード賞

東京エレクトロン株式会社

坂本 見恒 （サカモト ミツネ）

SEMI国際協力賞

アシスト テクノロジーズ ジャパン株式会社
TDK株式会社
信越ポリマー株式会社

大谷 幹雄 （オオタニ ミキオ）
岡部 勉 （オカベ ツトム）
小田嶋 智 （オダシマ サトシ）

JRSC特別賞

大日本印刷株式会社

鈴木 俊夫 （スズキ トシオ）

（敬称略）

「SEMI・ジャパン・スタンダード賞」は、日本地区におけるSEMIスタンダードの最高栄誉賞です。
受賞者の坂本 見恒氏は、10年間以上もの間、日本地区スタンダード委員会（JRSC：Japan Regional Standards Committee）傘下のインフォメーション・コントロール（Information & Control）委員長を務められ、この、スタンダードで最もクリティカルな分野の一つにおいて公正・公平な議事進行を心がけ、同委員会の地位を高めることに多大な貢献をされました。さらに、インフォメーション・コントロールのスタンダード活動が特許問題やその他の利害対立により阻害された場面においては、SEMIスタンダード運営規約などの理念を踏まえ、理性的な対応で混乱を収拾することに尽力されました。また、インフォメーション・コントロール関連の標準化と隣接する諸委員会（Physical Interfaces & Carriers委員会やメトリクス委員会など）との関係、北米地区やヨーロッパ地区のスタンダード活動組織との関係においても、非常に効果的かつ理性的な対応をされ、相互調整と正常な活動の維持・促進に注力されました。

同氏はまた、SEMIスタンダードの出版にあたり手続上の審査を国際的に一元化して行うための組織であるAudit & Review小委員会（国際スタンダード委員会傘下）の日本地区選出メンバーとして活躍されるなど、インフォメーション・コントロール分野以外においてもSEMIスタンダード活動に顕著な貢献をされています。
なお、同氏は1999年に国際協力賞を受賞されており、これに続き日本地区におけるSEMIスタンダードの最高栄誉賞を受賞されることになります。

「SEMI国際協力賞」は、大谷 幹雄、岡部 勉、小田嶋 智の三氏に授与されます。
三氏は、欧米先行で動き出した450mm半導体シリコンウェーハ関連の標準化活動の動向を敏感に察知され、その初期段階から日本地区のPhysical Interfaces & Carriers委員会において意見を取りまとめるとともに、積極的に日米間の調整を行うことで、日米協力した標準化活動の実現に貢献されました。

「JRSC功労賞」は、リソグラフィー技術の中核を担うフォトマスク分野における標準化活動の実績と、国内外での合意形成において顕著な貢献のあった鈴木俊夫氏に授与されます。
同氏は、2003年以来、日本地区においてMask Data Format for VBS （Variable-Shaped-Beam） Mask Writers分野の標準化活動を牽引してこられ、同分野のSEMIスタンダードの開発・改訂・普及に尽力し、VSB・EB用入力フォーマット標準化活動に貢献されました。

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