SEMI Tutorial 「半導体プロセス技術」|2009年11月11日-13日
SEMI Tutorial 「半導体プロセス技術」
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半導体デバイス製造プロセスの基本的なコンセプトを、デバイスメーカーの技術者、装置・材料メーカー、熟練技能者、電子工学専攻の学生の方など、幅広い分野の方々に理解していただけます。 |
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コース内容
- 拡散・注入コース
- エッチングコース
- リソグラフィコース(1) – リソグラフィ技術の基礎-
- リソグラフィコース(2) – 先端リソグラフィ技術-
- 多層配線コース(1) – 多層配線技術の基礎-
- 多層配線コース(2) – Cu/Low-k 多層配線技術-
参加費用(消費税込)
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10月30日(金)までの特別料金 |
10月31日(土)以降 |
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3日間受講
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38,000円 |
48,000円 |
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1日受講
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各 15,000円 |
各 18,000円 |
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1コース受講 |
各 9,000円 |
各 10,000円 |
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※ 学校関係者(含学生)特別料金
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各 3,500円 |
各 3,500円 |
テキストは別売り
テキストとして半導体プロセス教本【第4版】(4,000円)を使用します。受講申込と合せてご購入ください。
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テキスト 半導体プロセス教本 (4,000円)
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副読本 半導体プロセス教本副読本「一問一答集」 (1,000円)
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お申込
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SEMI Tutorial : 全コース受講(6コース) | |
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SEMI Tutorial : 拡散・注入コース | |
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SEMI Tutorial : エッチングコース | |
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SEMI Tutorial : 拡散・注入とエッチングコースのセット受講 | |
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SEMI Tutorial : リソグラフィコース(1) | |
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SEMI Tutorial : リソグラフィコース(2) | |
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SEMI Tutorial : リソグラフィコース(1)と(2)のセット受講 | |
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SEMI Tutorial : 多層配線コース(1) | |
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SEMI Tutorial : 多層配線コース(2) | |
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SEMI Tutorial : 多層配線コース(1)と(2)のセット受講 |
◇ キャンセル
お申込日を起算日として10日目以降及び11月6日(金)以降のキャンセル・変更はできません。代理の方のご出席でお振替えください。万一ご欠席の場合でも、参加費用全額を申し受けますので予めご了承ください。
◇ 定員 各コース60名
定員になり次第締切らせていただきますので、お早めにお申込みください。
また、各コースとも参加人数が15名に満たない場合は、中止とさせていただく場合がございます。その場合には、申込者の方にメールにてご連絡申し上げますので、予めご了承ください。
会場
SEMIジャパン 大島ビル 5F 会議室(東京都千代田区九段南4-7-13)
■ JR総武線:市ヶ谷駅 徒歩5分
■ 都営地下鉄新宿線・東京メトロ有楽町線、南北線:市ヶ谷駅 A3出口となり
お問合せ
SEMIジャパン イベント受付
TEL:03-3222-5993 FAX:03-3222-5790
Email: jeventinfo@semi.org
