日時：

場所：

講師：

2008年12月3日（水）13:30-17:00

SEMICON Japan 2008併催　幕張メッセ　国際会議場

村上俊郎／原田産業 株式会社
鈴木政典／株式会社 テクノ菱和
鈴木輝夫／春日電機 株式会社
山口晋一／トレック・ジャパン 株式会社

■セミナー内容

半導体デバイスの高集積化、超微細化に伴い、製造工程内での静電気の発生・帯電、ESD（静電気放電）によるデバイスの損傷、静電吸着によるコンタミネーションなどの悪影響が、著しいコスト上昇の要因となっており、半導体製造工程での静電気による諸問題・悪影響についての対策強化が、さらに必要となってきています。
本セミナーでは、静電気問題への対応として、SEMI E78の紹介と関連の測定技術や静電吸着によるコンタミネーションに関して、基礎的な内容と実演をまじえて、分かりやすい解説セミナーが実施されました。

　　　　　　引用元： Arnold Steinman/SEMI ESD TF Leaderの提供資料

■セミナー対象者

・静電気対策方法を知りたい方
・静電気の問題点を理解して、今後の対策に役立てたい方
・静電気対策関連のSEMIスタンダードを読んで、疑問に思っていることを解決したい方
・静電気関連スタンダードに初めて取り組む方

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参加者について

合計30名のご参加をいただきました。
参加者は、デバイスメーカー、前／後工程のプロセス材料および装置メーカー、搬送装置メーカー、ソフトウェア開発メーカーなど、幅広い業種の方々にご参加いただきました。
参加者の職種、職位は以下の通りです。

セミナー参加者の職種
下図の通り、研究・開発関連が44%と一番多く、次いで、製造（プロセス・装置・デザイン）25%、企業経営・管理職13%の方々がご参加されました。

セミナー参加者の職位
下図の通り、エンジニアが63％と半数以上を占めています。次いでその他のマネジメント職が続きます。

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参加者アンケート

静電気は、目に見えない小さなものです。しかし、静電気問題は、半導体製造工程の中で注目されており、本セミナーのアンケート結果からもわかりますように、現在、その対策方法は強く求められております。
参加者30名のうち24名よりアンケートを頂きました。ご回答の一部をご紹介します。

本セミナーの評価
下図の通り、『大変満足』と『満足』を合わせると75％の方々に好評価をいただきました。残りの25％は『不満』という結果でした。

■満足の理由：
・静電気測定器についての注意点など今まで気付かなかった事がわかった。
・基礎的な知識が習得できた。
・基礎原理が理解でき面白かった
■不満の理由：
・プレゼンのスピードが速かった
・事例をもっと知りたかった

1．本セミナーへの参加動機、理由
本セミナーの参加者の動機、理由（下記参照）からも分かりますように、現在、静電気対策方法は強く求められております。
・静電気の問題点の理解
・上司からの指示
・静電気対策の基礎知識習得
・社内で静電気問題が起こっている
・デバイス帯電問題の解決
・お客様からの静電気対策要望があった
・半導体製造工程における具体的な静電気対策事例

2．セミナーを同僚などに勧めますか？
下図の通り、回答者の約80％の方々に『勧める』とご回答いただきました。
■『勧める』の理由：
・分かりやすい
・社内の狭い見識から飛び出せた
・今後の静電気対策に役立つから
■『勧めない』の理由：
・今回の内容を社内で情報共有するため

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