SEMI - スケジュール

スケジュール

■ 6月13日（水）

9:30–11:30 SEMI Tutorial 半導体プロセス技術[リソグラフィ（１）]
－半導体デバイス製造プロセスをわかりやすく解説－

10:00–13:00 デジタルヘルスケアセミナー（１）
－医工連携で医療イノベーションに挑む－

10:00–13:00 リソグラフィーセミナー（１）
－EUVLは本当にくるのか、その真相を探る！－

10:00–13:00 オーガニックエレクトロニクスセミナー（１）
－広がる有機エレクトロニクスの世界（前半）－

10:00–13:00 再生可能エネルギーセミナー（１）
－日本がとるべきベストエネルギーミックスとは？－

12:30–14:30 SEMI Tutorial 半導体プロセス技術[リソグラフィ（２）]
－半導体デバイス製造プロセスをわかりやすく解説－

13:40–14:20 基調講演　 ★Webサイト登録制/無料

「MORE THAN MOOREで半導体の世界が新たに拡がる」
ローム株式会社常務取締役研究開発本部長　高須秀視

14:30–17:40 SEMIマーケットセミナー
　　　　　　　　－日本半導体の総合力を考察する－

14:30–17:30 デジタルヘルスケアセミナー（２）
－ヘルスケアビジネスの最前線－

14:30–17:30 リソグラフィーセミナー（２）
　　　　　　　　－レジスト材料から見たNGLの本命は何か？－

14:30–17:30 オーガニックエレクトロニクスセミナー（２）
－広がる有機エレクトロニクスの世界（後半）－

14:30–17:40 再生可能エネルギーセミナー（２）
－太陽光発電システムの信頼性と標準化の動き－

14:30–17:30 JASVA Day OSAKA
　　　　　　　　－次世代に向けたパワーデバイスの進化－

15:00–17:30 SEMI Tutorial 半導体プロセス技術 [拡散･注入]
－半導体デバイス製造プロセスをわかりやすく解説－

■ 6月14日（木）

9:30–11:30 SEMI Tutorial 半導体プロセス技術 [多層配線（１）]
－半導体デバイス製造プロセスをわかりやすく解説－

9:30–13:00 応用物理学会関西支部主催セミナー
－ここまで来たプリンタブルエレクトロニクス－

10:00–13:00 パワーデバイスセミナー（１）
－GaN・SiCパワーデバイス開発状況と市場予測－

10:00–13:00 イメ－ジング・システムセミナ－
－イメ－ジセンサはどこに向かうのか？－

10:00–13:00 赤外線センサセミナー（１）
－2012年MEMSセミナー（１）－

10:00–13:00 TSV/3次元積層化技術セミナー（１）
－いよいよ量産へ、ここまで来たTSV技術－

12:30–14:30 SEMI Tutorial 半導体プロセス技術 [多層配線（2）]
－半導体デバイス製造プロセスをわかりやすく解説－

14:00–17:00 パワーデバイスセミナー（２）
－GaN・SiCパワーデバイス開発状況と市場予測－

14:00–17:00 赤外線センサセミナー（２）
－2012年MEMSセミナー（2）－

14:00–17:00 先端CMOSデバイス・プロセスセミナー
　　　　　　－Trigate後の新CMOSデバイス潮流－

14:00–17:00 TSV/3次元積層化技術セミナー（２）
－TSVのキープロセス：ウェーハ接合技術の最前線－

14:30–17:30 応用物理学会シリコンテクノロジー分科会　研究集会
　　　　　　　　－接合技術ワークショップ－

15:00–17:30 SEMI Tutorial 半導体プロセス技術 [エッチング]
－半導体デバイス製造プロセスをわかりやすく解説－

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