2012年11月21日

「セミコン・ジャパン 2012」で450mmおよびEUV開発の最新進捗状況が明らかに
～ セミコン・ジャパン 2012、12月5～7日、幕張メッセにて開催 ～

SEMI（本部：米国カリフォルニア州サンノゼ、プレジデント兼CEO：デニー･マクガーク）が2012年12月5日（水）～7日（金）、幕張メッセ（千葉市美浜区）において開催する半導体製造装置・部品材料の総合イベント「セミコン・ジャパン 2012」では、半導体産業の持続的発展を大きく左右する技術開発の最新進捗状況が明らかにされます。ひとつは、生産効率向上のブレークスルーをめざす450mmシリコンウェーハであり、もうひとつは、微細化を推し進めるための極紫外線（EUV）露光です。それぞれについて、世界各地域で開発のリーダーシップをとる組織やトップランナー企業が、最新の進捗を報告し、セミコン・ジャパン 2012を通じて業界全体で最新情報の共有をいたします。

■ 450mmウェーハに関する講演
SEMIでは、世界各地で順次開催される主要なSEMICONショーにおいて、450mmの情報共有を目的としたフォーラムを開催し、無料で来場者に提供しています。セミコン・ジャパン 2012においても、12月6日（木）13:30より、幕張メッセ国際会議場にて「450mmフォーラム」を開催します（聴講無料、同時通訳付、事前登録制）。このフォーラムでは、450mmの開発が加速する契機となった米国ニューヨーク州アルバニーのコンソーシアム G450C (Global 450 Consortium) の副社長で、業界とのインタフェースおよび計画の戦略面を担当するフランク・ロバートソン (Frank Robertson) 氏が、環境安全や後工程を含めた総合的なプロジェクトの進捗を報告します。また、IHSアイサプライ・ジャパン株式会社による450mmの生産コストダウン効果の検証と共に、株式会社ニコンからは450mm対応露光装置に対する戦略とロードマップの発表、東京エレクトロン株式会社からは技術的課題と日本のサプライチェーンの動向が報告され、業界全体での情報共有の促進を通じて、400億ドルとも見積られる巨額な研究開発費を必要とする今回の大口径化に対する効率的な移行を支援します。

また、450mmウェーハ移行には欠かせない製造技術標準化に関しても、12月7日（金）14:00より、同じく国際会議場にて、「450mmウェーハ関連スタンダード解説セミナー」を開催し、開発用ウェーハの仕様、ウェーハキャリア(FOUP)やロードポート等のハードウェアインタフェース仕様の他、新たに開発が開始された、プロセスチャンバと搬送モジュール間のプラットフォーム仕様についても情報を提供します。

■ EUVリソグラフィに関する講演
セミコン・ジャパン 2012 最終日の12月7日（木）15:30より、展示会場内（ホール3）のメインステージにおいて、SEMATECH ナノ欠陥・メトロロジ担当シニアディレクタ マイケル・ラーセル (Michael Lercel) 氏が、SEMATECHにおけるEUVプロジェクトについて講演します。本講演取り上げられるEUV Mask Infrastructure（EUVマスク・インフラストラクチャ）パートナーシップとEUV Resist Materials Development Center（EUVレジスト材料開発センター）は、いずれもSEMATECHが中心となってEUV開発のコストおよびリスク軽減を狙いとした関係企業の共同研究プロジェクトです。また、新たにマスクブランクスの無欠陥化の共同研究も始まります。本講演は聴講無料です（事前登録制）。

また、同日、10:00から国際会議場でおこなわれるSEMIテクノロジーシンポジウム セッション9「リソグラフィ・マスク （1）」では、ASMLジャパン株式会社が高NA光学系を搭載した量産適用次世代スキャナの実機における性能を報告するほか、ヨーロッパの研究機関であるimecが、ASMLの生産前開発機および東京エレクトロンのレジストシステムを核としたパイロットラインでの開発状況を発表します。また、同セッションでは、ウシオ電機株式会社からLDP方式によるEUV光源の長寿命化を含む開発状況が報告され、これら講演によってEUVの総合的な進捗状況を示します。

■ セミコン・ジャパンのスマートフォンアプリを提供
今年新たに、来場前の下調べや会場での情報収集に役立つスマートデバイス向けアプリの提供を始めました。出展者の展示情報やブース位置、セミナーの開催情報などを検索できるほか、出展者がTwitterで発信する最新情報がリアルタイムでご覧になれます。本アプリの対応機種は、iPhone, iPod touch, iPad, Android。また、利用料は無料（通信にかかる費用は利用者負担）です。ダウンロードについては、セミコン・ジャパンWebサイトでご案内しています。

セミコン・ジャパン 2012 開催概要
名称：	セミコン・ジャパン 2012
会期：	2012年12月5日（水）～7日（金）
会場：	幕張メッセ （千葉県千葉市美浜区中瀬2-1）
主催：	SEMI
後援（予定）：	米国大使館商務部、特定非営利活動法人LED照明推進協議会、一般社団法人エレクトロニクス実装学会、公益社団法人応用物理学会、次世代プリンテッドエレクトロニクス技術研究組合、一般社団法人電子情報技術産業協会、一般社団法人日本液晶学会、一般社団法人日本半導体製造装置協会、社団法人日本半導体ベンチャー協会
ロゴ：
開催回数：	第36回
Webサイト：	http://www.semiconjapan.org
お客様からの問合せ先：	セミコン・ジャパン運営事務局       展示会について：03-6812-8690　　セミナーについて：03-3222-5993

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