2011年8日3日

＜ご参考資料＞米国カリフォルニア州で8月2日（米国時間）に発表されたプレスリリースの翻訳です。

シリコンウェーハ出荷面積発表
2011年第2四半期のシリコンウェーハ出荷面積は増加

SEMI（本部：米国カリフォルニア州サンノゼ）は、8月2日（米国時間）、SEMI Silicon Manufacturers Group (SMG)によるシリコンウェーハ業界の分析結果をもとに、2011年第2四半期（暦年）の世界シリコンウェーハ出荷面積は2011年第1四半期から5%増加したと発表しました。

2011年第2四半期に出荷されたシリコンウェーハ面積は23億9,200万平方インチとなり、2011年第1四半期の22億8,700万平方インチから5%増加しました。また、前年同期比では1%増でした。

SEMI SMGのチェアマンで、シルトロニックAG コーポレート・バイス・プレジデントのフォルカー・ブレッチ氏 (Dr. Volker Braetsch) は次のように述べています。
「シリコンウェーハ出荷面積は直近の四半期に増加しました。日本を襲った地震とそれに続く津波の直後に、シリコン・サプライヤーが半導体産業全体をこれほどまでに支えることができたのは、特筆すべきことです。」
 

 
シリコンウェーハは半導体の基本材料であり、半導体は、コンピュータ、通信機器、家電をはじめとするあらゆるエレクトロニクス関連製品のきわめて重要な部材です。シリコンウェーハは、高度な技術で作られた薄い円盤状の素材で、様々な直径（1インチから300mmまで）が製造されており、殆どの半導体デバイス（チップ）の基板材料として使われています。

本リリースで用いている数値は、ウェーハメーカーよりエンドユーザーに出荷されたバージンテストウェーハを含む鏡面ウェーハ、エピウェーハ、ノンポリッシュドウェーハを集計したものです。

SMGは、SEMIの組織の中で独立したスペシャルインタレストグループとしてその役目を果たしており、多結晶シリコン、単結晶シリコンおよびシリコンウェーハ（カット、研磨、エピタキシャル加工など）の製造に携わっている全てのSEMI会員企業に門戸を開いています。SMGの目的は、シリコン産業と半導体市場についての市場情報・統計データの収集をはじめ、シリコン業界の共通課題について参加メンバーが協力して取り組むことにあります。

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