第16回 STS Award 受賞者発表

2009年3月3日

第16回 STS Award 受賞者発表

SEMI（本部：米国カリフォルニア州サンノゼ）は、本年で16回目を迎える2009年STS Award (SEMI Technology Symposium Award)受賞者を下記の通り発表いたします。

2009年のSTS Awardは、2008年12月に開催された「セミコン・ジャパン 2008」で行われた技術シンポジウム「SEMIテクノロジーシンポジウム(STS) 2008」全講演の中から、1) 技術面での情報の価値･有用性、2) 適時性・タイミング、話題性・オリジナリティ、3) プレゼンテーションの3点において優れているとして選出された講演に授与されるものです。STS Awardの選考にはSTSプログラム委員会があたり、選考にあたっては聴講者アンケートの結果も参考にされています。本年の受賞者は、2009年1～2月にかけて開催されたSTSプログラム委員会のレビュー委員会において最終選考が行われました

第16回STS Awardの受賞者および受賞講演タイトルは下記の通りです。

株式会社沖デジタルイメージング　荻原光彦　（オギハラミツヒコ）
「『エピフィルムボンディング』技術」

株式会社東芝　齋藤真澄　（サイトウマスミ）
「FinFETにおける3次元応力設計」

株式会社東芝　中杉哲郎　（ナカスギテツロウ）
「次世代リソグラフィ技術の課題」

パナソニック株式会社　勝間常泰　（カツマノブヒロ）
「半田転写抑制に向けたLSIソケットの改善」

Mirai^*-Selete^**　二瓶瑞久　（ニヘイミズヒサ）
「次世代LSIに向けたカーボン配線技術」

VivoMedical, Inc.　Russell O. Potts　（ラッセルポッツ）
「Non-invasive glucose monitoring using micro-fluidic collection of sweat」

^*：半導体MIRAIプロジェクト^**：Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc.／株式会社半導体先端テクノロジーズ

本賞の授賞式（第16回STS Award受賞記念講演）は、「STS 2009」の中で執り行います。

＜参考＞
■ SEMIテクノロジーシンポジウム（STS）：
毎年12月、セミコン・ジャパン開催時に開催している技術シンポジウム。1982年に第1回を開催、2009年で28回目を迎える。半導体プロセス・デバイス技術を中心に、先端技術動向、技術課題、その実用化技術が第一線の技術者から発表される。
2008年のSTSでは、オープニングキーノートのほかに10の技術セッションで92講演が行われ、のべ1,098人が聴講した。本年は12月2日（水）～4日（金）の3日間、幕張メッセ国際会議場で開催予定。また本年のプログラムは10月初旬に発表予定。

STS 2008 会場風景

STS 2008で行われた第15回STS Award授賞式