[SEMI:회원사] 액셀리스, 세미콘 코리아 2013에서 업계 최고의 주입 기술 선보여

SEMI 회원사 소식을 알려드립니다!

  • SEMI 회원사 소식: 액셀리스, 세미콘 코리아 2013에서 업계 최고의 주입 기술 선보여

-2Xnm과 그 이상의 정확성, 순도, 생산성의 새로운 기준 제시

(버버리, 매사추세츠주 2013년 1월 28일 PRNewswire=연합뉴스) 반도체 업계의 혁신적인 고생산성 솔루션 제공자인 액셀리스 테크놀로지(Axcelis Technologies[http://www.axcelis.com/ ], 나스닥: ACLS)이 세미콘 코리아 2013(SEMICON Korea 2013)[http://www.semiconkorea.org/en/ ]에서 최신 이온주입 기술을 선보일 예정이라고 오늘 발표했다. 아시아태평양 지역의 가장 중요한 기술포럼 중 하나인 이번 행사는 1월 30일부터 2월1일까지 서울 코엑스(COEX)에서 열린다. 다양한 컨퍼런스 프로그램이 마련돼 있으며, 20개국에서 모인 500개의 전시 기업과 45,000명의 참가자가 함께할 예정이다.

엔지니어링 및 마케팅 제품개발부의 전무이사인 빌 빈츠(Bill Bintz)는 “우리는 업계에서 정확성 및 순도, 생산성의 새로운 기준을 제시하는 자사의 최신 제품을 세미콘 코리아에서 선보이게 돼 기쁘다. 한국은 연구개발과 제조 역량에 대한 많은 투자로 기기 제조의 핵심적인 지역으로써 자리매김 했다. 한국의 칩 제조사들은 서브 2Xnm 제조와 450mm 도입의 기술 및 경제적 과제에 있어 자사의 뛰어난 성능효율과 비용효율성을 가진 기술의 도움을 받을 수 있다”고 전했다.

액셀리스(Axcelis)의 전문가들은 액셀리스 부스(#3506, D홀)에서 차세대 IC 제조 기술 및 주입 시장 출시품인 Purion M™ 중전류 임플렌터[http://www.axcelis.com/products/ion-implant/mid_current/purion-m ]를 선보인다. 시스템은 다양한 중전류 주입에 있어 전례 없는 생산성과 에너지 순도를 제공한다. 또한 정확한 각도 제어, 특허 에너지 필터, 기기 성능변형을 최소화하는 초점거리 탐색 기능으로 최고의 수율을 얻을 수 있다.

또한 액셀리스는 프로세스 제어 향상과 생산성 증대를 위해 디자인된 다양한 성능 업그레이드[http://www.axcelis.com/support-programs/performance-upgrades ]도 함께 선보이는데 이는 시스템의 수명을 연장시키고 투자에 대한 수익률을 높일 수 있는 1000개의 업그레이드를 제공한다. 이 숫자는 모든 제품 라인의 비용효율성을 향한 액셀리스의 헌신을 증명한다. 이번 전시회에서 전시되는 업그레이드에는 새로운 Eterna™ ELS3 이온 소스와 강력한 새로운 소프트웨어 제어 시스템, 고성능 말단 스테이션 업그레이드, 얇은 웨어퍼 통제 시스템 업그레이드 등이 있다.

액셀리스(Axcelis)에 대해:

매사추세츠 주 버버리에 본사를 둔 액셀리스(나스닥: ACLS)는 반도체 산업에 혁신적인 고생산성 솔루션을 제공한다. 또한 IC 제조과정의 핵심적인 단계인 이온주입[http://www.axcelis.com/products/ion-implant ] 시스템의 디자인, 제조, 전체 수명주기[http://www.axcelis.com/support-programs/global-support-solutions ] 지원을 통해 프로세스 개발을 돕는다. 기업의 인터넷 웹사이트: www.axcelis.com.

기업 문의:

모린 하트(Maureen Hart) (편집부/미디어) +1.978.787.4266

maureen.hart@axcelis.com

제이 재거(Jay Zager) (금융 커뮤니티) +1.978.787.9408

jay.zager@axcelis.com

출처: Axcelis Technologies, Inc.

Axcelis Showcases Industry Leading Ion Implant Technology At SEMICON Korea 2013

-Products Set a New Standard in Precision, Purity and Productivity for 2Xnm and Beyond

BEVERLY, Mass., Jan. 28, 2013 /PRNewswire/ -- Axcelis Technologies, Inc. [http://www.axcelis.com/ ] (Nasdaq: ACLS), a leading supplier of innovative, high-productivity solutions for the semiconductor industry, announced today that it will showcase its latest advancements in ion implantation at SEMICON Korea 2013 [http://www.semiconkorea.org/en/ ]. The event, one of the most important technology forums in the Asia Pacific region, is being held January 30th - February 1st, at the COEX Center in Seoul, Korea. It will feature numerous conference programs, over 500 exhibiting companies from 20 countries, and more than 45,000 attendees.

Bill Bintz, executive vice president, product development, engineering and marketing, commented "We're excited to promote our newest products at SEMI Korea, which are setting a new standard for industry leading precision, purity and productivity. Korea continues to be one of the most important regions for device manufacturing, as a result of their significant investments in both research and development and manufacturing capabilities. As Korean chipmakers manage the technological and economic challenges of sub 2Xnm manufacturing and 450mm implementation, they can rely on Axcelis to deliver technology that provides compelling performance efficiencies and cost advantages, to drive customer value and bottom line results."

Axcelis experts will be on hand at the Axcelis Booth (#3506, in Hall D [http://expo.semi.org/Korea2013/public/FloorPlan.aspx?ID=3534&sortMenu=102000&exp=9/26/2012+7:39:52+PM&LangID=2 ]), to present the company's newest technology for next generation IC manufacturing. At the show, the Company will be promoting Axcelis' newest entrant to the implant market, the Purion M™ medium current implanter [http://www.axcelis.com/products/ion-implant/mid_current/purion-m ]. The system is designed to deliver unmatched levels of productivity and energy purity across the broadest range of medium current implant applications. Its precision angle control, patented energy filter and constant focal length scanning minimize device performance variation, providing the highest yield possible.

In addition, Axcelis will be showcasing a wide array of performance upgrades [http://www.axcelis.com/support-programs/performance-upgrades ] designed to enhance process control and boost productivity. Axcelis offers customers over 1000 upgrades to extend their system lifecycle and maximize the return on their capital investments. This number is a testament to Axcelis' dedication to provide customers with a continuous, cost effective improvement path for all of our product lines. Upgrades being promoted at the show include the new Eterna™ ELS3 ion source, powerful new software control systems, high performance end station upgrades, and thin wafer handling system upgrades.

About Axcelis:

Axcelis (Nasdaq: ACLS), headquartered in Beverly, Mass., provides innovative, high-productivity solutions for the semiconductor industry. Axcelis is dedicated to developing enabling process applications through the design, manufacture and complete life cycle support [http://www.axcelis.com/support-programs/global-support-solutions ] of ion implantation [http://www.axcelis.com/products/ion-implant ] systems, one of the most critical and enabling steps in the IC manufacturing process. The Company's Internet address is: www.axcelis.com.

Company Contacts:

Maureen Hart (editorial/media) 978.787.4266

maureen.hart@axcelis.com

Jay Zager (financial community) 978.787.9408

jay.zager@axcelis.com

SOURCE: Axcelis Technologies, Inc.