上海陛通半导体能源科技股份有限公司

上海陛通半导体能源科技股份有限公司于2008年11月在上海张江高科园区注册成立。是国内一家专业从事高端集成电路薄膜沉积设备研发、生产、销售为一体的高科技企业。公司深耕薄膜沉积设备研发制造领域17年，先后在上海、苏州、武汉、合肥等地设立了研发制造和技术服务中心。研发中心和制造基地总面积超过20000平方米，从而保证了为“客户提供高品质定制化的专业设备和先进工艺开发的技术服务”。目前公司设计研发生产的各种类型纳米级薄膜沉积设备，包括化学气相沉积CVD、射频和磁控溅射物理气相沉积PVD设备产品已经进入国内多家大型头部集成电路芯片生产企业。 在管理体系建设方面，公司先后通过了ISO9001质量管理体系、ISO14001环境管理体系、ISO45001职业健康安全管理体系认证。在知识产权体系建设方面，公司共取得225项知识产权授权，其中包含136项原创型发明专利。同时，公司先后也取得了多项上海市和国家级荣誉： 2011年，荣获上海市首批“技术先进型服务企业”； 2017年，荣获上海市科技“小巨人”培育企业； 2019年，公司通过“浦东新区研发机构”认证； 2021年，通过国家高新技术企业复审； 2022年，通过上海市“专精特新”中小企业认定； 2024年，荣获国家级“专精特新”小巨人称号； 2024年，公司通过上海市企业技术中心认证； 2025年，荣获国家级重点“小巨人”荣誉。 在技术创新和成果转化方面，公司推出了半导体业内四大全球首创薄膜沉积技术和相应的沉积设备：包括“小亮旋转”动态晶圆沉积技术、第三代UV-CVD技术、动态静电吸盘沉积技术、晶圆非对称翘曲矫正技术等全球首创技术。对近代纳米级薄膜沉积工艺做出了陛通应有的贡献。四大全球首创技术呈现出的各项性能指标均超越国际先进水平。 公司积极布局未来发展。秉持着“差异化创新”的企业核心竞争力理念，公司将持续加大研发投入，不断引进行业高精尖人才，进一步提升自身研发实力，拓展公司半导体薄膜沉积设备的应用范围和场景。