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2008年11月17日増刊号

 

11月増刊号 目次

セミコン・ジャパン 2008特集

セミコン・ジャパン2008入場登録受付中 ※セミナー早割りは11/21(金)まで!

移動体制御技術を支えるワイドギャップ半導体やセンサ技術に注目

集中連載第3回: セミコン・ジャパン アナリストの視点
グローバルネット株式会社 代表取締役 武野泰彦の視点

SEMIテクノロジーシンポジウム特別セッション

次世代ファブにおける生産効率向上のディスカッション

SEMI S18
「シラン系ガスの取り扱いに関する環境、健康、および安全ガイドライン」とその改訂活動

EU(欧州連合)の大規模な化学物質規制「REACH規則」

マスクデータフォーマットの動向とSTEP SEMI P44/P45 の紹介

SEMIからのお知らせ — セミコン・ジャパン2008 注目のセミナー

International Packaging Strategy Symposium(IPSS) 2008

STS セッション3: 検査/メトロロジー

STS セッション7: テスト

半導体製造設備におけるEMC対策の最新動向

半導体製造装置における静電気問題と対策

STEP/ S2-0706

第9回地球環境シンポジウム

SEMIマーケットセミナーで、Fabデータベースが当たる


 
 

イベントカレンダー

12月

SEMICON Japan 2008
12月3–5日(幕張)

1月

ISS US 2009
1月11-14日(ハーフムーンベイ)

SEMICON Korea 2009
1月20–22日(ソール)

2月

ISS Europe 2009
2月1-3日(ドレスデン)

3月

SEMI Photovoltaic Fab Managers Forum
3月8-9日(ドレスデン)

FPD China 2009
3月11-13日(上海)

SEMICON China 2009
3月17-19日(上海)

4月

Global FPD Partners Conference 2009
4月8-11日(宮崎)

5月

SEMICON Singapore 2009
5月20-22日(シンガポール)

SEMI Forum Japan 2009
5月26-27日(大阪)

Intersolar Europe
5月27-29日(ミュンヘン)

6月

SEMICON Russia 2009
6月1-3日(モスクワ)

Display Taiwan 2009
6月11-13日(台北)

PVJapan 2009
6月24-26日(幕張)

7月

SEMICON West 2009
7月14-16日(サンフランシスコ)

9月

SEMICON Taiwan 2009
9月30-10月2日(台北)


 
 

Logo: SEMICON Japan 2008


Logo: PVJapan 2009





 
 
SEMICON Japan 2008 特集

入場登録受付中!

11月20日(木)までに事前登録をされた方には、お手元に入場バッジをお送りしますので、入場もスムーズ。その上、下記の景品が当たる抽選会にもご参加いただけます!

» 1等 脱メタボ「PC管理歩数計」(毎日20名様)
» 2等 静電気除去グッズ (毎日100名様)
» 3等 お楽しみテープケース (毎日200名様)

展示会入場登録

セミナーの早割りは11月21日(金)まで!
» セミナーの全体スケジュール «

11月20日(木)までに登録すれば、会場でセミコン・ジャパンのノベルティが当たる抽選会に参加できます



移動体制御技術を支えるワイドギャップ半導体や
センサ技術に注目

SEMI特別展示コーナー
「移動体制御技術がもたらすサステイナビリティ」

特別講演:12月3日(水)・12月4日(木)(聴講無料)
今後の半導体に更なる影響を与え、これからの市場性が期待できる技術として、ワイドギャップ半導体を取り上げ、そのアプリケーションとしてクルマとロボットにフォーカスした講演を行います。


12月3日(水) 13:30-14:30
車載に向くワイドギャップ半導体の現状
– 車に於けるエネルギー(動力)制御と情報通信に重要な
半導体エレクトロニクス –

【講師】独立行政法人 産業技術総合研究所 奥村 元

奥村 元
12月4日(木) 11:00-12:00
サービスロボットの現状と課題
– ロボティクス応用による新たな産業創造への期待と課題 –

【講師】ロボットビジネス推進協議会 竹中 恭二
竹中 恭二
» 詳細はこちら



集中連載: セミコン・ジャパン アナリストの視点<4>

グローバルネット 武野泰彦の視点
「半導体産業もCHANGEの時代に」


2009年のオバマ米国大統領の誕生は新しい時代の始まりを予感させる。それは地球環境の問題、格差の問題等を解決する為に社会が大きくCHANGEすることだ。
» 続きを読む

グローバルネット株式会社代表取締役 武野泰彦



SEMIテクノロジーシンポジウム特別セッション
「次世代エネルギーデバイス」の紹介

2006年をピークに半導体業界では成長率の鈍化傾向が続いています。回復の兆しが未だ見えない中、ここに来て米国サブプライム問題に端を発する金融危機の影響が追い討ちをかける形で半導体業界の経営環境を更に悪化させています。その一方で太陽電池関連ビジネスは世界的規模で近年稀に見る活況を呈しています。 » 続きを読む



次世代ファブにおける生産効率向上のディスカッション

ウェーハを大きくすれば、半導体の生産コストを下げることができ、業界の発展成長を維持することが可能なのでしょうか? 200mmから300mmへの移行を振り返ってみても、ウェーハを大きくしたからコストを下げることができたわけではありませんでした。 » 続きを読む



SEMI S18
「シラン系ガスの取り扱いに関する環境、健康、および安全ガイドライン」とその改訂活動

シラン、ジシランやジクロロシラン、トリクロロシランなどのシラン系ガスは半導体製造工場や類似のデバイス製造の主要工程で使用され、必要欠くべからざるプロセスガスです。しかし、その可燃性(シラン、ジシランの場合は室温で自然発火:自燃性)や毒性、腐食性(塩素化シランの場合)のため、取り扱い設備や取り扱い方法に不備があると容易に大事故が発生します。
» 続きを読む



EU(欧州連合)の大規模な化学物質規制「REACH規則」

欧州化学物質庁(ECHA)への既存化学物質の予備登録が本年6月にスタートして既に4カ月が経過しました。EU域内に製品を輸出する事業者には、使用するすべての化学物質の登録が義務付けられることになります。この予備登録の締め切りが12月1日ということもあり、多くの人の関心は「予備登録」や「登録」に集まりがちですが、予備登録や登録がREACH規制の目的ではありません。 » 続きを読む



マスクデータフォーマットの動向と関連セミナー の紹介

フォトマスクに関連する情報の授受に様々なデータフォーマットが使われています。長い間、共通に利用されてきたデータフォーマットとして、LSI設計データのGDSIIフォーマットやマスクデータのMEBESフォーマットがあります。両フォーマットは、何れも一企業の独自フォーマットでありながら、フォトマスク製造時の受け渡しデータのデファクトスタンダードとして、二十年以上に亘り、国内外のメーカー間で利用されてきました。 » 続きを読む


セミコン・ジャパン2008 注目のセミナー

International Packaging Strategy Symposium (IPSS) 2008
– 半導体ビジネスにおける"実装"の影響力 –

12月4日(木) 10:00-16:30 幕張メッセ 国際会議場 2F 201会議室

実装技術は典型的なニーズ志向であり、その技術開発と生産技術の向上がPCや携帯電話など多くの電子機器の進歩を支えてきました。今後半導体メーカーが戦略的にビジネスを進めるためには、実装を知り尽くし、かつそれを各社の文化に適したビジネスモデルに盛り込むことが大切です。IPSSでは、経済学やファンドの専門家を交え、この実装がもつビジネスへの影響力について議論を深めます。 » セミナー詳細とお申込



STS セッション3: 検査/メトロロジー
– hp32nm世代に向け重要性を増す検査・メトロロジー技術
動向 –

12月3日(水) 14:00-16:50 幕張メッセ 国際会議場 コンベンションホールA

32nm世代のデバイス開発が本格化する中で、デバイスパターンの検査・計測技術は従来に比較して一層その重要性を増してきていると同時に、年々、技術的な難度は増してきています。今年が第一回となるこのセッションでは、デバイスからみた検査・メトロロジー技術への要望を詳説していただいた後、技術の現状と課題についてその分野の先端的な研究をしておられる方々に研究開発状況について発表していただきます。 » セミナー詳細とお申込



STS セッション7: テスト
– 躍進するテスト技術-革新から確信へ –

12月4日(木) 10:00-18:30 幕張メッセ 国際会議場 国際会議室

半導体の集積度は1チップ内に1つのシステムを作り込めるまで進化してきました。この様な半導体デバイスをテストするためには、従来、目的別に開発されてきたテスト技術(DFT、診断・解析、測定etc)を融合し、1階層上の総合的技術レベルに昇華させていく必要があります。本セッションでは、テスト技術開発の第一線で活躍されている方々に、最新の研究開発成果や技術動向を紹介していただきます。
» セミナー詳細とお申込



半導体製造設備におけるEMC対策の最新動向
– SEMI E33改訂版における 新しい捉え方 –

12月3日(水)10:00-12:00

半導体製造設備・装置において、電磁妨害もしくは静電気放電によって引き起こされる障害はより深刻になってきています。本セミナーでは、EMC(Electro- Magnetic Compatibility)についての基礎を概説するとともに、SEMI E33の規格改訂の動向および解説を通して、電磁適合性(EMC)対策の考え方および実例を紹介します。 » セミナー詳細とお申込



半導体製造装置における静電気問題と対策

12月3日(水)13:30-17:00

製造工程内での静電気の発生・帯電、ESD(静電気放電)によるデバイスの損傷、静電吸着によるコンタミネーションなどの悪影響が、著しいコスト上昇の要因となっており、半導体製造工程での静電気による諸問題・悪影響についての対策強化が、さらに必要となってきています。本セミナーでは、静電気問題への対応として、SEMI E78の紹介と関連の測定技術や静電吸着によるコンタミネーションに関して、基礎的な内容と実演をまじえて、わかりやすく紹介します。 » セミナー詳細とお申込



STEP/ S2-0706
– 半導体製造装置のEHSガイドライン –

12月2日(火) 10:00-17:30

世界のデバイスメーカーが求める半導体製造装置の安全性能基準をまとめた「SEMI S2-0706」を分かりやすく解説します。「S2」全体の概説に対する要望と各専門分野の詳細説明を求める声双方に応える構成とし、第一部では基本的な安全設計の要求事項や考え方を概説し、第二部では特定セクション/分野について具体例を交えて詳細を説明します。 プログラムの詳細・お申し込みはこちらから。 » セミナー詳細とお申込



第9回地球環境シンポジウム
– 気候変動緩和に向けてのアプローチ –

12月4日(木) 12:00-17:30

環境問題への取り組みは、企業の持続的発展のために避けられない課題であると同時に、新たなビジネスチャンスを創出する機会にも結びつくと考えられています。今回のシンポジウムでは、特に気候変動の緩和に向けた企業戦略、そして半導体産業における活動の最新成果を報告します。
» セミナー詳細とお申込



SEMIマーケットセミナーで、Fabデータベースが当たる

SEMIマーケットセミナーにご参加いただいた皆様へ、全世界のファブ投資計画をトラックするSEMIのファブデータベースレポートや、SEMI市場統計のノベルティ文具を抽選でプレゼント。抽選はセミナーの最後に会場で行います。お楽しみに! » マーケットセミナー詳細とお申込

» 1等 FabFuturesの最新版レポート 1名様
» 2等 SEMI市場統計 皮製ノートバインダー 2名様
» 3等 SMI市場統計 ボールペン 3名様
   

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※ SEMI通信をご覧いただき有難うございます。SEMI通信について、ご意見やご要望などございましたらこちらまでご連絡ください。
SEMI ジャパン マーケティング部門
〒102-0074 東京都千代田区九段南 4-7-13
Tel: 03-3222-5854 Fax: 03-3222-6014
Email: japanweb@semi.org、Webサイト: www.semi.org

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